-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100375263C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200410085563.1
申请日：2000-05-25
IPC: H01L21/68
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
-
公开(公告)号：CN1595632A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410085563.1
申请日：2000-05-25
IPC: H01L21/68
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
-
公开(公告)号：CN1595631A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410085562.7
申请日：2000-05-25
IPC: H01L21/68
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
-
公开(公告)号：CN1365518A
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN00810884.6
申请日：2000-05-25
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明,提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
-
公开(公告)号：CN1179407C
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN00810884.6
申请日：2000-05-25
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.03 seconds)
