公开(公告)号：CN111354571A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201911314956.8

申请日：2019-12-19

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 高桥和子 ,  石井大基 ,  大槻史朗

IPC: H01G4/005 ,  H01G4/10 ,  H01G4/33 ,  H01G4/38

Abstract: 一种电容器单元，该电容器单元具备一对或多对电容器，该电容器具有：介电体；形成于介电体的第一电极；以及形成于介电体的第二电极，在该电容器单元中，分别将反方向的电压施加于互相成对的两个电容器中的各自的第一电极和第二电极之间。

公开(公告)号：CN111739731A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN202010194812.X

申请日：2020-03-19

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 大槻史朗 ,  高桥和子 ,  原田祥典 ,  铃木翔太 ,  加贺谷康永 ,  加藤友彦 ,  石田未来

IPC: H01G4/12 ,  H01G4/33 ,  H01B3/12

Abstract: 本发明涉及一种电介质膜。所述电介质膜包含：(1)Bi及Ti；(2)选自Na及K中的至少一种元素E1；和(3)选自Ba、Sr及Ca中的至少一种元素E2。电介质膜具备：主相，其包含氧化物，该氧化物包含Bi、Ti、元素E1及元素E2且具有钙钛矿结构；和副相，其包含Bi且具有比主相低的氧浓度。在电介质膜的截面上，副相的面积相对于主相的面积及副相的面积的合计的比RS为0.03以上0.3以下。

公开(公告)号：CN111739735A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN202010088062.8

申请日：2020-02-12

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 大槻史朗 ,  高桥和子 ,  佐藤和希子

IPC: H01G4/33 ,  H01G4/10

Abstract: 本发明的电介质膜是包含具有钙钛矿结构的氧化物的电介质膜。上述氧化物包含：(1)Bi、Na和Ti；(2)Ba和Ca中的至少一种；以及(3)选自La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Yb和Y中的至少一种元素Ln。上述氧化物中，在将Bi、Ba和Ca的原子数相对于Bi、Na、Ba与Ca的原子数的合计之比分别表示为XBi、XBa和XCa的情况下，满足0.2≤XBi/(XBa+XCa)≤5。