用于制造封装体的构件装置的方法和用于制造具有构件装置的封装体的方法、构件装置和封装体

    公开(公告)号:CN114008876A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202080045827.8

    申请日:2020-06-22

    摘要: 本发明涉及一种用于制造封装体的构件装置的方法,该方法具有:提供具有抛光的晶片表面(6)的由半导体材料形成的晶片(1);借助各向异性蚀刻在晶片(1)中构造出开口(2、3),其中,在此在开口(2、3)的区域中制造出各向异性蚀刻的表面(4);从各向异性蚀刻的晶片中分离出构件(9),其中,将经分离的构件(9)制造成具有以下面:在抛光的晶片表面(6)的表面区段的区域中形成的光学面(7),和在各向异性蚀刻的表面(4)的区域中形成的装配面(5);并且在使用装配面(5)的情况下将经分离的构件(9)装配在承载衬底(2)的衬底表面(11)上,从而使各向异性蚀刻的表面(4)与衬底表面(11)连接,其中,在此将光学面(7)布置为倾斜的暴露的面。此外,还提出了一种构件装置以及一种具有构件装置的封装体。

    构件装置、封装体和封装体装置以及用于制造的方法

    公开(公告)号:CN111837298A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201980012428.9

    申请日:2019-02-11

    摘要: 本发明涉及一种构件装置,其具有:承载衬底(1);间隔保持器(3),其布置在承载衬底上且包围出结构空间(1a)并且其在背对着承载衬底的一侧上具有射出开口;光学部件(2),其布置在结构空间中;接触连接部,其将光学部件与布置在结构空间之外的位于外部的接触部导电连接;顶衬底(4),其布置在间隔保持器上,并且以顶衬底透光地覆盖射出开口;和光反射面(6),其形成在各向异性蚀刻的硅构件上,并且作为具有相对承载衬底的朝向结构空间的表面成大约45°的角度的倾斜面来布置在结构空间中,使得在水平方向上辐射进入到光反射面上的光能在竖直方向上通过开口和顶衬底辐射出,并且反之亦然。此外,公开了用于制造构件装置的方法以及封装体、封装体装置和用于制造的方法。