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公开(公告)号：CN113272400A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202080007203.7
申请日：2020-01-09
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C09J11/06 , C09J201/00 , B32B15/08 , C23C24/08
Abstract: 本发明是一种接着组合物，其是用以在金属的表面形成与树脂的接着层的，上述树脂为硬化性树脂，上述组合物为包含在1个分子中具有2个以上氮原子的低分子有机化合物、与选自由3价的铝离子、及3价的铬离子所组成的群中的1种以上的金属离子，且pH值为12以下的水溶液，上述低分子有机化合物的浓度为0.01～150g/L，上述金属离子的摩尔浓度为0.005～100mmol/L。该接着组合物可提高多种金属的表面与树脂的接着性。
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公开(公告)号：CN101445933A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810179114.1
申请日：2008-11-25
Applicant: MEC股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种蚀刻剂，在半加成法中除去化学镀铜层时，能够防止布线图案的尺寸精度的降低。本发明的第1蚀刻剂的特征在于，是含有硫酸、过氧化氢和水的铜的蚀刻剂，其中，含有在分子中具有羧基和羟基中的至少一方两个以上的苯并三唑衍生物。本发明的第2蚀刻剂的特征在于，是含有硫酸、过氧化氢和水的铜的蚀刻剂，其中，含有仅具有氮原子作为存在于环内的杂原子的吡咯类、以及具有两个以上羧基的多元酸或其盐。
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公开(公告)号：CN110177901B
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201780082955.8
申请日：2017-12-15
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C23C22/05 , C09D5/00 , C09D7/40 , C09D201/00 , H05K3/38
Abstract: 本发明的覆膜形成用组成物是pH为4至10的溶液，且含有：在一分子中具有胺基以及芳香环的芳香族化合物、具有2个以上的羧基的多元酸、以及氧化剂。作为氧化剂，可使用次氯酸、亚氯酸、氯酸、过氯酸、过硫酸、过碳酸、过氧化氢、或有机过氧化物等。芳香族化合物优选为包含含氮芳香环，进而优选为具有一级胺基或是二级胺基。覆膜形成用组成物例如可用于对金属构件的表面的覆膜的形成。
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公开(公告)号：CN107018669A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201580065256.3
申请日：2015-09-17
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C23F1/22 , B29C45/02 , B29C45/14 , B29C45/14311 , B29K2705/00
Abstract: 本发明的蚀刻剂由水溶液所构成，所述水溶液含有硝酸以外的无机酸及有机酸所成群组所选择的1种以上的酸；以及于分子构造中含有N‑OH或N‑O‑的有机氮化合物。蚀刻剂中酸的浓度为0.05重量％至3重量％，有机氮化合物的浓度为0.005重量％至5重量％。藉由使镁构件的表面接触所述蚀刻剂，即使在蚀刻深度大时也可在镁构件的表面形成细微的粗化形状。
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公开(公告)号：CN103403934B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201180052263.1
申请日：2011-11-04
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: H01M4/70 , H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/1391 , H01M4/66
CPC classification number: H01M4/70 , H01M4/136 , H01M4/5825 , H01M4/661
Abstract: 本发明提供可提升活性物质与集电体之间的电子传导性之非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法、及非水电解质二次电池用正极之制造方法。本发明的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法，其特征在于：前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110177901A
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201780082955.8
申请日：2017-12-15
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C23C22/05 , C09D5/00 , C09D7/40 , C09D201/00 , H05K3/38
Abstract: 本发明的覆膜形成用组成物是pH为4至10的溶液，且含有：在一分子中具有胺基以及芳香环的芳香族化合物、具有2个以上的羧基的多元酸、以及氧化剂。作为氧化剂，可使用次氯酸、亚氯酸、氯酸、过氯酸、过硫酸、过碳酸、过氧化氢、或有机过氧化物等。芳香族化合物优选为包含含氮芳香环，进而优选为具有一级胺基或是二级胺基。覆膜形成用组成物例如可用于对金属构件的表面的覆膜的形成。
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公开(公告)号：CN109153879A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780027711.X
申请日：2017-03-13
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C09D177/00 , B32B15/08 , C09D5/00 , C09D7/61 , C09D183/04 , C09J11/04 , C09J11/06 , C23C26/00 , H05K3/38
CPC classification number: C09D183/04 , B32B15/08 , B32B2255/06 , B32B2255/24 , C08K3/16 , C08K5/092 , C08K5/17 , C09D5/00 , C09D5/002 , C09D7/40 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D177/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J11/08 , C09J183/04 , C23C26/00 , H05K3/38
Abstract: 本发明的被膜形成用组成物为pH值为6至9的溶液，包含有：于一分子中具有胺基及芳香环的芳香族化合物、具有2个以上的羧基的多元酸以及卤化物离子。被膜形成用组成物中的多元酸的含量为芳香族化合物的含量的0.05倍至10倍，卤化物离子的浓度为5mM至600mM。通过使被膜形成用组成物与金属构件的表面接触，可在金属构件的表面且金属表面形成与树脂的粘接性优异的被膜。
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公开(公告)号：CN103403934A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201180052263.1
申请日：2011-11-04
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: H01M4/70 , H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/1391 , H01M4/66
CPC classification number: H01M4/70 , H01M4/136 , H01M4/5825 , H01M4/661
Abstract: 本发明提供可提升活性物质与集电体之间的电子传导性之非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法、及非水电解质二次电池用正极之制造方法。本发明的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法，其特征在于：前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上。
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公开(公告)号：CN118064896A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202311542978.6
申请日：2023-11-17
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C23F1/26
Abstract: 本发明的蚀刻液组包含：含有盐酸以及硫代化合物的第一液、以及含有盐酸以及亚硝酸源的第二液。第一液所含有的硫代化合物为碳数7以下的化合物，该化合物具有S－H或是S＝C，且具有选自由氨基、亚氨基、羧基、羰基、以及羟基所构成的组中的1种以上的官能基；第一液中的硫代化合物浓度为0.5重量％至30重量％。第二液中的亚硝酸源浓度为0.1mM至30mM；盐酸浓度为8重量％至30重量％；硫酸浓度为4.5重量％以下。本发明的蚀刻液组能够适用于Ni‑Cr合金等被处理金属的选择性蚀刻。
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公开(公告)号：CN109153879B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780027711.X
申请日：2017-03-13
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C09D177/00 , B32B15/08 , C09D5/00 , C09D7/61 , C09D183/04 , C09J11/04 , C09J11/06 , C23C26/00 , H05K3/38
CPC classification number: C09D183/04 , B32B15/08 , B32B2255/06 , B32B2255/24 , C08K3/16 , C08K5/092 , C08K5/17 , C09D5/00 , C09D5/002 , C09D7/40 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D177/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J11/08 , C09J183/04 , C23C26/00 , H05K3/38
Abstract: 本发明的被膜形成用组成物为pH值为6至9的溶液，包含有：于一分子中具有胺基及芳香环的芳香族化合物、具有2个以上的羧基的多元酸以及卤化物离子。被膜形成用组成物中的多元酸的含量为芳香族化合物的含量的0.05倍至10倍，卤化物离子的浓度为5mM至600mM。通过使被膜形成用组成物与金属构件的表面接触，可在金属构件的表面且金属表面形成与树脂的粘接性优异的被膜。
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