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公开(公告)号:CN103403934B
公开(公告)日:2016-10-19
申请号:CN201180052263.1
申请日:2011-11-04
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: H01M4/70 , H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/1391 , H01M4/66
CPC classification number: H01M4/70 , H01M4/136 , H01M4/5825 , H01M4/661
Abstract: 本发明提供可提升活性物质与集电体之间的电子传导性之非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法、及非水电解质二次电池用正极之制造方法。本发明的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法,其特征在于:前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上。
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公开(公告)号:CN103403934A
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201180052263.1
申请日:2011-11-04
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: H01M4/70 , H01M4/131 , H01M4/136 , H01M4/1391 , H01M4/66
CPC classification number: H01M4/70 , H01M4/136 , H01M4/5825 , H01M4/661
Abstract: 本发明提供可提升活性物质与集电体之间的电子传导性之非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法、及非水电解质二次电池用正极之制造方法。本发明的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法,其特征在于:前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上。
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