功率半导体器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103811541B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201310175270.1

    申请日:2013-05-13

    发明人: 吴政勳

    IPC分类号: H01L29/778 H01L29/06

    摘要: 本发明公开了一种功率半导体器件。该功率半导体器件包括衬底、设置在衬底上的第一半导体层、设置在第一半导体层上的第二半导体层,设置在第二半导体层上并且露出第二半导体层的一部分的第三半导体层、设置在第二半导体层的经由第三半导体层露出的部分上的栅电极以及设置在第三半导体层上在栅电极的两侧处以彼此间隔开的源电极和漏电极。在第三半导体层中在栅电极和漏电极之间形成电隔离区域。

    功率半导体器件
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103811541A

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201310175270.1

    申请日:2013-05-13

    发明人: 吴政勳

    IPC分类号: H01L29/778 H01L29/06

    摘要: 本发明公开了一种功率半导体器件。该功率半导体器件包括衬底、设置在衬底上的第一半导体层、设置在第一半导体层上的第二半导体层,设置在第二半导体层上并且露出第二半导体层的一部分的第三半导体层、设置在第二半导体层的经由第三半导体层露出的部分上的栅电极以及设置在第三半导体层上在栅电极的两侧处以彼此间隔开的源电极和漏电极。在第三半导体层中在栅电极和漏电极之间形成电隔离区域。