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公开(公告)号：CN102686514A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201080059156.7
申请日：2010-12-22
Applicant: JNC株式会社 , JX日矿日石金属株式会社 , 东邦钛株式会社
IPC: C01B33/02 , C01B33/033 , C01B33/107
CPC classification number: C01B33/025 , C01B33/033 , C01B33/035 , C01B33/10721
Abstract: 本发明提供多晶硅以及四氯化硅的制造方法，其中在多晶硅的制造工艺中，可以使用廉价且可稳定供给的原料，顺利地进行氯化反应，氯化反应后的杂质得到抑制，可以有效地利用能量来进行制造。该多晶硅的制造方法的特征在于，包含：将由二氧化硅和含碳物质构成的造粒体氯化，生成四氯化硅的氯化步骤、将四氯化硅用还原剂金属还原而生成多晶硅的还原步骤、和将在还原步骤中副生成的还原剂金属氯化物熔盐电解而生成还原剂金属和氯气的电解步骤，氯化步骤中，在氧气共存下向二氧化硅和含碳物质供给氯气使它们进行反应，电解步骤中生成的还原剂金属在还原步骤中作为四氯化硅的还原剂再利用，电解步骤中生成的氯气在氯化步骤中再利用。
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公开(公告)号：CN100581687C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN03820338.3
申请日：2003-07-18
Applicant: 东邦钛株式会社
CPC classification number: H01G4/0085 , B22F1/0088 , B22F1/02
Abstract: 本发明提供一种通过在多层陶瓷电容器的制造工序中显示优良的氧化操作和烧结操作而能够防止发生分层的金属镍粉末和其制造方法。一种金属镍粉末，其特征在于：经碳酸水溶液处理的平均粒径为1.0微米以下，氧含量为0.3～2.0重量%，而且在整个表面层上具有厚度为2～10纳米的氧化被膜。本发明的金属镍粉末制造方法的特征在于，是在碳酸水溶液中进行处理，然后在氧化性气氛中进行热处理。
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公开(公告)号：CN1678416A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN03820338.3
申请日：2003-07-18
Applicant: 东邦钛株式会社
CPC classification number: H01G4/0085 , B22F1/0088 , B22F1/02
Abstract: 本发明提供一种通过在多层陶瓷电容器的制造工序中显示优良的氧化操作和烧结操作而能够防止发生分层的金属镍粉末和其制造方法。一种金属镍粉末，其特征在于：经碳酸水溶液处理的平均粒径为1.0微米以下，氧含量为0.3～2.0重量％，而且在整个表面层上具有厚度为2～10纳米的氧化被膜。本发明的金属镍粉末制造方法的特征在于，是在碳酸水溶液中进行处理，然后在氧化性气氛中进行热处理。
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公开(公告)号：CN1096323C
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN97193311.1
申请日：1997-12-01
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F9/28
CPC classification number: B22F9/28 , B22F2998/00 , B22F2999/00 , Y10S266/905 , B22F1/0018 , B22F2201/013
Abstract: 工艺过程包括引入氯气使之与金属镍相接触并连续生成金属氯化物气体的氯化工序和使金属氯化物气体与还原性气体相接触使金属氯化物不断得到还原的还原工序。根据这个过程，可以通过控制导入的氯气量来调节产生的金属氯化物气体的量，并由此精确地调节金属粉末的颗粒直径，从而保证了颗粒直径的稳定并可以在0.1～1.0μm的范围内任意选择颗粒直径。
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公开(公告)号：CN1214643A
公开(公告)日：1999-04-21
申请号：CN97193311.1
申请日：1997-12-01
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F9/28
CPC classification number: B22F9/28 , B22F2998/00 , B22F2999/00 , Y10S266/905 , B22F1/0018 , B22F2201/013
Abstract: 工艺过程包括引入氯气使之与金属镍相接触并连续生成金属氯化物气体的氯化工序和使金属氯化物气体与还原性气体相接触使金属氯化物不断得到还原的还原工序。根据这个过程,可以通过控制导入的氯气量来调节产生的金属氯化物气体的量,并由此精确地调节金属粉末的颗粒直径,从而保证了颗粒直径的稳定并可以在0.1～1.0μm的范围内任意选择颗粒直径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104379279A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380017821.X
申请日：2013-04-05
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F1/00 , B22F9/24 , B22F9/28 , B22F9/30 , H01B1/02 , H01B5/00 , H01B13/00 , H01G4/30 , H01G4/232
CPC classification number: B22F1/0018 , B22F9/28 , B82Y30/00 , C22C19/03 , H01B1/02 , H01G4/008 , H01G4/30
Abstract: 本发明提供金属镍粉末之间凝聚而形成的粗大粒子的含量少的金属镍粉末。金属镍粉末，其平均粒径为10nm～1000nm，具备MCT检测器的傅里叶变换红外分光光度计的1200cm-1～900cm-1的吸收光谱信号的S/N比(X)和3700cm-1～3600cm-1的吸收光谱信号的S/N比(Y)为Y≤-1.0X＋23.0。
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公开(公告)号：CN1264633C
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN99801356.0
申请日：1999-06-09
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F9/28
CPC classification number: B22F9/28
Abstract: 使金属氯化物气体和还原性气体在还原反应温度范围内进行接触而生成金属粉末后，当使氮气等惰性气体接触该金属粉末进行冷却时，在从还原反应温度范围至至少800℃的范围内，该冷却速度在30℃/s以上。将金属粉末急冷，借此可以抑制金属粉末颗粒的凝集和成长成二次颗粒。在还原工序中生成的金属粉末的颗粒，其在还原工序后发生凝集而成长成二次颗粒被抑制，能够稳定地得到粒径例如在1μm以下的超细粉的金属粉末。
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公开(公告)号：CN1463212A
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：CN02802076.6
申请日：2002-06-11
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F9/28
CPC classification number: C22B23/06 , B22F9/28 , C22B1/08 , C22B5/12 , H01G4/0085 , Y10T29/49165
Abstract: 使金属氯化物气体和还原性气体接触，将所得的金属粉在碳酸水溶液进行中洗涤，进一步用液相对此金属粉进行分粒，由此可有效地制造氯组分极少且粗粉少的镍粉等金属粉。
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公开(公告)号：CN1273562A
公开(公告)日：2000-11-15
申请号：CN99801123.1
申请日：1999-05-20
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: C01G23/00
CPC classification number: C01G23/006 , C01P2002/34 , C01P2004/32 , C01P2004/52 , C01P2004/62
Abstract: 本发明能够容易地制得一种微粒的粒度分布狭窄而且具有优良Ba/Ti原子比的钛酸钡粉末,从而可以提高生产率。通过使四氯化钛等的钛化合物的水溶液与经过滤处理的氯化钡等的钡化合物的碱性水溶液,在控制钛化合物/钡化合物的化学当量比为0.8～1.2的条件下和在搅拌下接触来生产钛酸钡粉末。
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公开(公告)号：CN104379279B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201380017821.X
申请日：2013-04-05
Applicant: 东邦钛株式会社
IPC: B22F1/00 , B22F9/24 , B22F9/28 , B22F9/30 , H01B1/02 , H01B5/00 , H01B13/00 , H01G4/30 , H01G4/232
CPC classification number: B22F1/0018 , B22F9/28 , B82Y30/00 , C22C19/03 , H01B1/02 , H01G4/008 , H01G4/30
Abstract: 本发明提供金属镍粉末之间凝聚而形成的粗大粒子的含量少的金属镍粉末。金属镍粉末，其平均粒径为10nm～1000nm，具备MCT检测器的傅里叶变换红外分光光度计的1200cm-1～900cm-1的吸收光谱信号的S/N比(X)和3700cm-1～3600cm-1的吸收光谱信号的S/N比(Y)为Y≤-1.0X＋23.0。
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