探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法

    公开(公告)号:CN103681188B

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201310397481.X

    申请日:2013-09-04

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: H01J37/153 H01J2237/1534

    Abstract: 本发明的名称是探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法,透镜系统具有包括物平面的物空间和包括像平面的像空间,由此放置在物平面上的物体能够通过透镜系统而被成像到所述像平面上,透镜系统还具有入射光瞳。本发明的方法包括以下步骤:选择物平面上的固定轴心点;导引带电粒子射束通过轴心点、入射光瞳以及透镜系统并且到像平面上,射束相对于入射光瞳的面积具有相对小的横截面积;改变射束通过轴心点的定向,以便在入射光瞳上描绘出入射图形并且在像平面上描绘出对应的像图形;记录像图形;在透镜系统的一系列不同焦点设定处重复这个过程,从而在不同焦点设定处采集被记录的像图形的集合;分析该集合以便从其得到透镜像差。

    探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法

    公开(公告)号:CN103681188A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310397481.X

    申请日:2013-09-04

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: H01J37/153 H01J2237/1534

    Abstract: 本发明的名称是探查和校正带电粒子透镜系统中的像差的方法,透镜系统具有包括物平面的物空间和包括像平面的像空间,由此放置在物平面上的物体能够通过透镜系统而被成像到所述像平面上,透镜系统还具有入射光瞳。本发明的方法包括以下步骤:选择物平面上的固定轴心点;导引带电粒子射束通过轴心点、入射光瞳以及透镜系统并且到像平面上,射束相对于入射光瞳的面积具有相对小的横截面积;改变射束通过轴心点的定向,以便在入射光瞳上描绘出入射图形并且在像平面上描绘出对应的像图形;记录像图形;在透镜系统的一系列不同焦点设定处重复这个过程,从而在不同焦点设定处采集被记录的像图形的集合;分析该集合以便从其得到透镜像差。

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