公开(公告)号：CN102879999B

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201210393108.2

申请日：2005-03-23

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 隋郁 ,  吴恒鹏 ,  康文兵 ,  M·O·那斯尔 ,  片山朋英 ,  S·S·丁-李 ,  菱田有高 ,  J·E·欧博兰德 ,  M·A·托克西

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

Abstract: 本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：CN102879999A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201210393108.2

申请日：2005-03-23

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 隋郁 ,  吴恒鹏 ,  康文兵 ,  M·O·那斯尔 ,  片山朋英 ,  S·S·丁-李 ,  菱田有高 ,  J·E·欧博兰德 ,  M·A·托克西

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

Abstract: 本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：CN1942826B

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN200580011869.5

申请日：2005-03-23

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 隋郁 ,  吴恒鹏 ,  康文兵 ,  M·O·那斯尔 ,  片山朋英 ,  S·S·丁-李 ,  菱田有高 ,  J·E·欧博兰德 ,  M·A·托克西

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

Abstract: 本发明涉及正性底部可光成像的抗反射涂料组合物，它能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：CN100565342C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200380103776.6

申请日：2003-11-06

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 吴恒鹏 ,  李丁术季 ,  向中 ,  J·E·欧比尔兰德尔 ,  M·O·那斯尔 ,  E·冈萨雷兹 ,  单鑑会

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明涉及一种新型的抗反射涂层组合物，其含有聚合物，交联剂和酸产生剂。本发明进一步涉及一种特别是在193nm下使用该新型组合物的方法。本发明聚合物含有至少一种选自结构(1)、(2)和(3)的单元。

公开(公告)号：CN1942826A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200580011869.5

申请日：2005-03-23

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 隋郁 ,  吴恒鹏 ,  康文兵 ,  M·O·那斯尔 ,  片山朋英 ,  S·S·丁-李 ,  菱田有高 ,  J·E·欧博兰德 ,  M·A·托克西

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

Abstract: 本发明涉及正性底部可光成像的抗反射涂料组合物，它能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：CN1714316A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200380103776.6

申请日：2003-11-06

Applicant: AZ电子材料美国公司

Inventor： 吴恒鹏 ,  李丁术季 ,  向中 ,  J·E·欧比尔兰德尔 ,  M·O·那斯尔 ,  E·冈萨雷兹 ,  单鑑会

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明涉及一种新型的抗反射涂层组合物，其含有聚合物，交联剂和酸产生剂。本发明进一步涉及一种特别是在193nm下使用该新型组合物的方法。本发明聚合物含有至少一种选自结构(1)、(2)和(3)的单元。