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公开(公告)号：CN1942826B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200580011869.5
申请日：2005-03-23
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S438/952
Abstract: 本发明涉及正性底部可光成像的抗反射涂料组合物，它能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
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公开(公告)号：CN101218541B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200680025340.3
申请日：2006-07-07
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/105 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/127
Abstract: 本发明提供可用于使厚膜成像的光敏光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和可光漂白的染料。本发明进一步提供使本发明的光致抗蚀剂成像的方法，特别是其中光致抗蚀剂的厚度最多200微米的情况和其中该方法包括单步曝光的情况。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1942826A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011869.5
申请日：2005-03-23
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S438/952
Abstract: 本发明涉及正性底部可光成像的抗反射涂料组合物，它能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
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公开(公告)号：CN102879999B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201210393108.2
申请日：2005-03-23
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S438/952
Abstract: 本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
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公开(公告)号：CN102879999A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210393108.2
申请日：2005-03-23
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S438/952
Abstract: 本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
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公开(公告)号：CN101305321A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200680041865.6
申请日：2006-11-08
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/095
Abstract: 本发明涉及用于光致抗蚀剂的底涂组合物，含有在碱性显影剂水溶液中不溶、但在显影前变得可溶的聚合物，和当暴露在辐射下时将产生强酸的光致产酸剂，而且所述聚合物在曝光辐射下是透明的。本发明还涉及使底涂组合物成像的方法。
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公开(公告)号：CN101218541A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680025340.3
申请日：2006-07-07
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/105 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/127
Abstract: 本发明提供可用于使厚膜成像的光敏光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和可光漂白的染料。本发明进一步提供使本发明的光致抗蚀剂成像的方法，特别是其中光致抗蚀剂的厚度最多200微米的情况和其中该方法包括单步曝光的情况。
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