公开(公告)号：CN100520581C

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200410008010.6

申请日：2004-03-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： R·F·M·肯德里克斯 ,  E·伦德林克 ,  R·蒙肖维 ,  A·M·范德里 ,  G·W·特胡夫特

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F7/70216 ,  G03F9/7065

Abstract: 一种光刻投影装置，包括：-辐射系统，用于产生辐射的投射光束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；-基底台，用于固定基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及-偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。

公开(公告)号：CN1527139A

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN200410008010.6

申请日：2004-03-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： R·F·M·肯德里克斯 ,  E·伦德林克 ,  R·蒙肖维 ,  A·M·范德里 ,  G·W·特胡夫特

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F7/70216 ,  G03F9/7065

Abstract: 一种光刻投影装置，包括：辐射系统，用于产生辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；基底台，用于固定基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。