公开(公告)号：CN108700826B

公开(公告)日：2021-04-27

申请号：CN201780012610.5

申请日：2017-02-16

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  泛林集团

Inventor： M·库比斯 ,  M·乔彻姆森 ,  R·S·怀斯 ,  N·莎玛 ,  G·A·迪克西特 ,  L·瑞亚南 ,  E·M·维亚基纳 ,  M·卢卡 ,  J·C·H·姆肯斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种方法以及相关联的设备和计算机程序，用于确定针对图案化工艺的感兴趣参数(诸如临界尺寸)的校正。该方法包括确定针对曝光控制参数的曝光控制校正，并且可选地基于结构的感兴趣参数的测量值、曝光控制关系和工艺控制关系来确定针对工艺控制参数的工艺控制校正。曝光控制关系描述感兴趣参数对曝光控制参数的依赖性，并且工艺控制关系描述感兴趣参数对工艺控制参数的依赖性。曝光控制校正和工艺控制校正可以被共同优化，以最小化后续经曝光和处理的结构的感兴趣参数相对于目标感兴趣参数的变化。

公开(公告)号：CN108700826A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780012610.5

申请日：2017-02-16

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  泛林集团

Inventor： M·库比斯 ,  M·乔彻姆森 ,  R·S·怀斯 ,  N·莎玛 ,  G·A·迪克西特 ,  L·瑞亚南 ,  E·M·维亚基纳 ,  M·卢卡 ,  J·C·H·姆肯斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/70625

Abstract: 一种方法以及相关联的设备和计算机程序，用于确定针对图案化工艺的感兴趣参数(诸如临界尺寸)的校正。该方法包括确定针对曝光控制参数的曝光控制校正，并且可选地基于结构的感兴趣参数的测量值、曝光控制关系和工艺控制关系来确定针对工艺控制参数的工艺控制校正。曝光控制关系描述感兴趣参数对曝光控制参数的依赖性，并且工艺控制关系描述感兴趣参数对工艺控制参数的依赖性。曝光控制校正和工艺控制校正可以被共同优化，以最小化后续经曝光和处理的结构的感兴趣参数相对于目标感兴趣参数的变化。