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公开(公告)号：CN114543987B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202210136204.2
申请日：2017-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·塞尼克里姆延 , C·弗南德茨-埃斯帕萨 , J·Q·奥德勒
Abstract: 描述了一种用于测量当前靶在其沿着轨迹朝向靶空间行进时的移动性质的方法。该方法包括：在当前靶进入靶空间之前检测由于当前靶与多个诊断探针中的每一个诊断探针之间的相互作用而产生的光的多个二维表示；基于对检测到的光的多个二维表示的分析来确定当前靶的一个或多个移动性质，该确定在当前靶进入靶空间之前完成；以及，如果所确定的当前靶的一个或多个移动性质在可接受范围之外，则调节被引导到靶空间的辐射脉冲的一个或多个特性。
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公开(公告)号：CN109716078A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780056385.5
申请日：2017-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·塞尼克里姆延 , C·弗南德茨-埃斯帕萨 , J·Q·奥德勒
CPC classification number: G01B11/002 , G01P3/68 , G01P13/00
Abstract: 描述了一种用于测量当前靶在其沿着轨迹朝向靶空间行进时的移动性质的方法。该方法包括：在当前靶进入靶空间之前检测由于当前靶与多个诊断探针中的每一个诊断探针之间的相互作用而产生的光的多个二维表示；基于对检测到的光的多个二维表示的分析来确定当前靶的一个或多个移动性质，该确定在当前靶进入靶空间之前完成；以及，如果所确定的当前靶的一个或多个移动性质在可接受范围之外，则调节被引导到靶空间的辐射脉冲的一个或多个特性。
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公开(公告)号：CN113767336A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080031831.9
申请日：2020-04-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与当前目标进行交互；检测装置；以及与检测装置通信的控制系统。检测装置包括：光传感器，该光传感器具有与诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从诊断区域处的诊断探针与当前目标之间的交互产生的光；以及诊断区域和光传感器之间的机械滤波器。机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，光学掩模限定被定位于光束缩减器和光传感器之间的孔。控制系统被配置为基于来自光传感器的输出来估计当前目标的属性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110431391B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201880019545.3
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01J11/00 , G01N21/552 , G01N21/21 , H05G2/00
Abstract: 一种针对EUV光源的系统，包括：被配置为发射量测光束的量测光源；光束组合器，被定位为接收量测光束和至少一个其他光束，并将量测光束和至少一个其他光束引导到朝向目标区域的光束路径上。在与光束组合器交互之后，量测光束和至少一个其他光束具有相同的偏振状态。
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公开(公告)号：CN113767336B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202080031831.9
申请日：2020-04-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与当前目标进行交互；检测装置；以及与检测装置通信的控制系统。检测装置包括：光传感器，该光传感器具有与诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从诊断区域处的诊断探针与当前目标之间的交互产生的光；以及诊断区域和光传感器之间的机械滤波器。机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，光学掩模限定被定位于光束缩减器和光传感器之间的孔。控制系统被配置为基于来自光传感器的输出来估计当前目标的属性。
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公开(公告)号：CN114543987A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210136204.2
申请日：2017-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·塞尼克里姆延 , C·弗南德茨-埃斯帕萨 , J·Q·奥德勒
Abstract: 描述了一种用于测量当前靶在其沿着轨迹朝向靶空间行进时的移动性质的方法。该方法包括：在当前靶进入靶空间之前检测由于当前靶与多个诊断探针中的每一个诊断探针之间的相互作用而产生的光的多个二维表示；基于对检测到的光的多个二维表示的分析来确定当前靶的一个或多个移动性质，该确定在当前靶进入靶空间之前完成；以及，如果所确定的当前靶的一个或多个移动性质在可接受范围之外，则调节被引导到靶空间的辐射脉冲的一个或多个特性。
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公开(公告)号：CN109716078B
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN201780056385.5
申请日：2017-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·塞尼克里姆延 , C·弗南德茨-埃斯帕萨 , J·Q·奥德勒
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公开(公告)号：CN110431391A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880019545.3
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01J11/00 , G01N21/552 , G01N21/21 , H05G2/00
Abstract: 一种针对EUV光源的系统，包括：被配置为发射量测光束的量测光源；光束组合器，被定位为接收量测光束和至少一个其他光束，并将量测光束和至少一个其他光束引导到朝向目标区域的光束路径上。在与光束组合器交互之后，量测光束和至少一个其他光束具有相同的偏振状态。
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