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公开(公告)号：CN115735163A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202180046991.5
申请日：2021-06-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了用于极紫外(EUV)辐射系统中的光学量测的系统、设备和方法。示例系统可以包括量测系统和窗口。示例量测系统可以被配置为被设置在第一环境中，并且沿着量测系统的光轴对第二环境中的区域执行一个或多个测量。示例窗口可以被配置为被设置成与光轴相交，并且将量测系统与第二环境隔离。示例窗口还可以被配置为在辐射收集器的主焦点处将相对于光轴的横向位移限制为与相对于光轴的标称横向位移相差小于约±50微米。
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公开(公告)号：CN106488826A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580037841.2
申请日：2015-06-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 在激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)系统中，使用激光脉冲产生EUV光。为了确定单独的激光脉冲的能量，使用校准系数将光电磁(PEM)检测器校准至功率计。当测量包括单个波长的脉冲的单一激光束时，基于脉冲的突发来计算校准系数。组合激光束具有与第二波长的预脉冲交替的第一波长的主脉冲。为了计算组合激光束中的主脉冲的能量，使用针对主脉冲的单一激光束计算出的校准系数。为了计算组合激光束中的预脉冲的能量，计算出新的校准系数。当计算出的能量值漂移超过预定阈值时，重新计算校准系数。
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公开(公告)号：CN117597630A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202280045716.6
申请日：2022-04-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种量测系统，包括光装置、检测装置和控制装置，该控制装置与检测装置通信。该光装置被配置为生成光学探针，该光学探针沿着探针光轴传播，该探针光轴在探针区域处与目标轴向路径相交，该目标轴向路径主要沿着X、Y、Z坐标系中的X轴延伸。检测装置被配置为检测处于多个不同波长下的所产生的光，每个波长与沿着X、Y、Z坐标系中的X横轴的不同位置相关联，所产生的光由在探针区域中光学探针与沿着目标轴向路径行进的目标之间的相互作用产生。控制装置被配置为分析所检测到的光并且确定沿着X、Y、Z坐标系中的X横轴的、与目标有关的位置信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119301528A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380046263.3
申请日：2023-05-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种组件，包括：窗口，所述窗口用于对极紫外（EUV）光源容器的内部进行光学访问，所述窗口具有透射带；和保护器，所述保护器被配置成将所述窗口与所述EUV光源容器的内部屏蔽隔离，所述保护器包括具有横跨一间隙的面向所述窗口的表面的片材，所述片材具有在10W/（#imgabs0#）至2000W/（#imgabs1#）的范围内的热导率。所述片材可以是蓝宝石片材，并且可以在面向所述窗口的表面上具有光学涂层，所述涂层反射在所述透射带之外的至少一些辐射，并且所述片材的相反侧可以是裸蓝宝石。
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公开(公告)号：CN113767336A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080031831.9
申请日：2020-04-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与当前目标进行交互；检测装置；以及与检测装置通信的控制系统。检测装置包括：光传感器，该光传感器具有与诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从诊断区域处的诊断探针与当前目标之间的交互产生的光；以及诊断区域和光传感器之间的机械滤波器。机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，光学掩模限定被定位于光束缩减器和光传感器之间的孔。控制系统被配置为基于来自光传感器的输出来估计当前目标的属性。
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公开(公告)号：CN106488826B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201580037841.2
申请日：2015-06-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 在激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)系统中，使用激光脉冲产生EUV光。为了确定单独的激光脉冲的能量，使用校准系数将光电磁(PEM)检测器校准至功率计。当测量包括单个波长的脉冲的单一激光束时，基于脉冲的突发来计算校准系数。组合激光束具有与第二波长的预脉冲交替的第一波长的主脉冲。为了计算组合激光束中的主脉冲的能量，使用针对主脉冲的单一激光束计算出的校准系数。为了计算组合激光束中的预脉冲的能量，计算出新的校准系数。当计算出的能量值漂移超过预定阈值时，重新计算校准系数。
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公开(公告)号：CN118511102A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202280063314.9
申请日：2022-09-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 光学模块被配置为使光束通过。光学模块包括：多个透镜，光束穿过多个透镜，多个透镜包括至少一个非球面复曲面透镜；以及光学安装装置，其中安装了多个透镜。多个透镜相对于光束的线性聚焦幕而被放置，线性聚焦幕与感兴趣区域相交。光学安装装置被布置在极紫外(EUV)光源的腔室的壁中或固定到极紫外(EUV)光源的腔室的壁，使得限定穿过EUV光源腔室并与腔室内的感兴趣区域相交的光路。
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公开(公告)号：CN113767336B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202080031831.9
申请日：2020-04-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与当前目标进行交互；检测装置；以及与检测装置通信的控制系统。检测装置包括：光传感器，该光传感器具有与诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从诊断区域处的诊断探针与当前目标之间的交互产生的光；以及诊断区域和光传感器之间的机械滤波器。机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，光学掩模限定被定位于光束缩减器和光传感器之间的孔。控制系统被配置为基于来自光传感器的输出来估计当前目标的属性。
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