层叠基板和电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN109982834B

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN201780070626.1

    申请日:2017-11-10

    Abstract: 本发明提供一种层叠基板,依次具备支撑基材、密合层和玻璃基板,密合层的端面为凹状,或者密合层具有与玻璃基板接触的中央区域和不与玻璃基板接触的端部区域,在将中央区域的厚度设为T1,将端部区域的厚度设为T2时,满足“T1×2/3>T2”且在中央区域与端部区域之间具有阶差,或者端面为凹状。

    层叠基板和电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN109982834A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201780070626.1

    申请日:2017-11-10

    Abstract: 本发明提供一种层叠基板,依次具备支撑基材、密合层和玻璃基板,密合层的端面为凹状,或者密合层具有与玻璃基板接触的中央区域和不与玻璃基板接触的端部区域,在将中央区域的厚度设为T1,将端部区域的厚度设为T2时,满足“T1×2/3>T2”且在中央区域与端部区域之间具有阶差,或者端面为凹状。

    接合体、接合体的制造方法以及发光装置

    公开(公告)号:CN116583400A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202180083944.8

    申请日:2021-12-07

    Abstract: 接合体包含:第1基材、第2基材、将上述第1基材与上述第2基材接合的无机膜、以及形成于上述第2基材的与接合面相反方向的面的半导体层。上述第1基材是SiO2含量为70mol%以下的玻璃。上述无机膜包含形成于上述第1基材的接合面的氧化硅膜。

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