无碱玻璃
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105271722B

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN201510427674.4

    申请日:2015-07-20

    申请人: AGC株式会社

    IPC分类号: C03C3/091

    摘要: 本发明提供热膨胀系数小、应变点高并且粘性低、特别是玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2低的无碱玻璃。一种无碱玻璃,其应变点为695℃以上,50~350℃下的平均热膨胀系数为43×10‑7/℃以下,玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1690℃以下,以基于氧化物的摩尔%计,含有63~70的SiO2、8~16的Al2O3、1.5~低于4的B2O3、0~8的MgO、0~20的CaO、1.5~10的SrO、0~0.5的BaO,MgO+CaO为0~28,MgO+CaO+SrO+BaO为12~30,SrO/CaO为0.33~0.85,(23.5×[SiO2]+3.5×[Al2O3]‑5×[B2O3])/(2.1×[MgO]+4.2×[CaO]+10×[SrO]+12×[BaO])为17以上。

    玻璃基板、层叠基板以及玻璃基板的制造方法

    公开(公告)号:CN107207323B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201680008835.9

    申请日:2016-02-02

    申请人: AGC株式会社

    摘要: 本发明提供一种玻璃基板,在将硅基板和玻璃基板贴合的热处理工序中,碱性离子不易向上述硅基板扩散,上述硅基板产生的残留应变小。本发明的玻璃基板在50℃~100℃的平均热膨胀系数α50/100为2.70ppm/℃~3.20ppm/℃,在200℃~300℃的平均热膨胀系数α200/300为3.45ppm/℃~3.95ppm/℃,将200℃~300℃的平均热膨胀系数α200/300除以50℃~100℃的平均热膨胀系数α50/100而得的值α200/300/α50/100为1.20~1.30,碱金属氧化物的含量以氧化物基准的摩尔百分比计为0%~0.1%。

    基板、液晶天线和高频装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111886210A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201980020075.7

    申请日:2019-03-13

    申请人: AGC株式会社

    摘要: 本发明提供一种能够降低高频信号的介电损耗且能够在宽温度区域稳定地使用的基板。本发明涉及一种基板,20℃、10GHz下的介电损耗角正切(A)为0.1以下,20℃、35GHz下的介电损耗角正切(B)为0.1以下,并且由{‑40~150℃的任意温度、10GHz下的介电损耗角正切(C)/所述介电损耗角正切(A)}表示的比为0.90~1.10。另外,本发明涉及一种基板,20℃、10GHz下的相对介电常数(a)为4~10,20℃、35GHz下的相对介电常数(b)为4~10,并且由{‑40~150℃的任意温度、10GHz下的相对介电常数(c)/所述相对介电常数(a)}表示的比为0.993~1.007。

    高频器件用玻璃基板、液晶天线和高频器件

    公开(公告)号:CN113039163A

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN201980075171.1

    申请日:2019-11-11

    申请人: AGC株式会社

    IPC分类号: C03C3/085 C03C4/16

    摘要: 本发明涉及一种高频器件用玻璃基板,其中,所述高频器件用玻璃基板的以氧化物基准的摩尔百分率计的含量满足:碱土金属氧化物:0.1%~13%、Al2O3+B2O3:1%~40%、Al2O3/(Al2O3+B2O3):0~0.45、和Sc2O3等微量成分:0.1%~1.0%或ZnO2+ZrO2:1.5%~4.0%,所述高频器件用玻璃基板以SiO2作为主要成分,并且所述高频器件用玻璃基板的35GHz下的介质损耗角正切为0.007以下。

    无碱玻璃
    9.
    发明公开
    无碱玻璃 审中-实审

    公开(公告)号:CN110436774A

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201910720507.7

    申请日:2015-07-20

    申请人: AGC株式会社

    IPC分类号: C03C3/091

    摘要: 本发明提供热膨胀系数小、应变点高、光弹性常数低、杨氏模量高、热收缩率小的无碱玻璃。其应变点为695℃以上,50~350℃下的平均热膨胀系数为43×10-7/℃以下,光弹性常数为31nm/MPa/cm以下,杨氏模量为78GPa以上,热收缩率为200ppm以下,以基于氧化物的摩尔%计,含有64.9~70的SiO2、8~16的Al2O3、2.7以上的B2O3、0~7.5的MgO、3~20的CaO、1.5~10的SrO,MgO+CaO为0~28,MgO+CaO+SrO+BaO为12~30,SrO/CaO为0.58~0.74,(23.5×[SiO2]+3.5×[Al2O3]-5×[B2O3])/(2.1×[MgO]+4.2×[CaO]+10×[SrO]+12×[BaO])为17以上。

    高频器件用玻璃基板、液晶天线和高频器件

    公开(公告)号:CN118702407A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410683865.6

    申请日:2019-11-11

    申请人: AGC株式会社

    摘要: 本发明涉及高频器件用玻璃基板、液晶天线和高频器件。本发明涉及一种高频器件用玻璃基板,其中,所述高频器件用玻璃基板的以氧化物基准的摩尔百分率计的含量满足:碱土金属氧化物:0.1%~13%、Al2O3+B2O3:1%~40%、Al2O3/(Al2O3+B2O3):0~0.45、和Sc2O3等微量成分:0.1%~1.0%或ZnO+ZrO2:1.5%~4.0%,所述高频器件用玻璃基板以SiO2作为主要成分,并且所述高频器件用玻璃基板的35GHz下的介质损耗角正切为0.007以下。