基板传送装置及基板清洗装置

    公开(公告)号:CN213591336U

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN202021728245.3

    申请日:2020-08-18

    Abstract: 一种基板传送装置及基板清洗装置,基板传送装置(10)具备传送部(11),该传送部(11)具有相互向反方向旋转的下侧辊(13)及上侧辊(15),利用下侧辊(13)和上侧辊(15)夹持玻璃板(G)而进行传送,其中,下侧辊(13)在与玻璃板(G)的传送方向(X)正交的宽度方向上在比所述基板的尺寸长的范围上具有树脂制的表层部(26),表层部(26)与玻璃板(G)的下表面的所述宽度方向的整个范围抵接,上侧辊(15)具有轴(31)和设置在轴(31)的两端附近的橡胶制的弹性环(33),弹性环(33)与玻璃板(G)的上表面的宽度方向的两缘部附近部位抵接。

    基板清洗装置的定位方法及输送控制方法

    公开(公告)号:CN120019890A

    公开(公告)日:2025-05-20

    申请号:CN202411632120.3

    申请日:2024-11-15

    Inventor: 石川智章

    Abstract: 提供一种基板清洗装置的定位方法及输送控制方法。本发明涉及一种定位方法,进行基板清洗装置(100)中的输送辊(11)的定位,基板清洗装置(100)具备沿着路径线(PL)输送玻璃板(G)的多个输送辊(11),其中,在作为基准的输送辊(11A)和定位对象的输送辊(11B)架设定位用基板(GA),测定定位用基板(GA)的倾斜角(θ),根据倾斜角(θ)和作为基准的输送辊(11A)与定位对象的输送辊(11B)的间距尺寸(P)计算高度之差(ΔH),且调整定位对象的输送辊(11B)的高度,以使高度之差(ΔH)成为预先设定的基准值以下。

    清洗构件的定位方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN120019889A

    公开(公告)日:2025-05-20

    申请号:CN202411624673.4

    申请日:2024-11-14

    Inventor: 石川智章

    Abstract: 提供一种清洗构件的定位方法。本发明涉及一种基板清洗装置(100)中的辊刷(37)的定位方法,该基板清洗装置(100)具备:多个输送辊(11),将玻璃板(G)沿着水平方向的路径线(PL)输送;及辊刷(37),在相邻的两个输送辊(11)之间的至少一处,沿着与路径线(PL)正交的路径宽度方向(PW)配置于路径线(PL)的上下的至少一方,一边旋转一边与玻璃板(G)接触而对主面进行清洗,使多个定位用基板(SGR、SGC、SGL)在路径宽度方向(PW)上排列并架设于在辊刷(37)的上下游相邻的输送辊(11),且使辊刷(37)向定位用基板(SGR、SGC、SGL)接近并旋转,并且监视多个定位用基板(SGR、SGC、SGL)的移动而对辊刷(37)的高度进行定位。

    树脂层的去除方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105032874B

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201510220079.3

    申请日:2015-04-30

    Abstract: 本发明涉及一种树脂层的去除方法,其去除配置在玻璃基板上的树脂层,具有如下工序:使碱浓度为15质量%以上且含有3质量%以上式(1)所示的化合物的碱水溶液与树脂层接触,去除树脂层,RO‑(LO)n‑H式(1)式(1)中,R表示烷基,L表示亚烷基,n表示1以上的整数。

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