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公开(公告)号：CN103998159B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201180075422.X
申请日：2011-12-22
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115
CPC classification number: B22D11/115 , B22D11/16
Abstract: 公开了一种用于连续铸造工艺的装置(7)。该装置(7)包含容器(9a)，所述容器(9a)具有用于将熔融金属接受在容器(9a)中的第一开口(9-1)、用于将熔融金属从容器(9a)排出的第二开口(9-2)、以及在第一开口(9-1)和第二开口(9-2)之间延伸的主体(9b)，附接至主体(9b)的第一磁性装置(10)，所述第一磁性装置(10)具有带有支柱的磁芯(10-1)、和围绕支柱布置的线圈(10-3)，以及配置为向线圈(10-3)中的每一个线圈提供叠加在载流电流上的交流电流的电源系统(16)，提供至线圈(10-3)的交流电流和载流电流的每一对形成流动控制电流，其中提供至邻近线圈(10-3)的流动控制电流相对于彼此移相，由此在容器(9a)内的熔融金属中产生移动磁场。本文还提供有相应的方法。
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公开(公告)号：CN102575376B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN200980161514.2
申请日：2009-09-18
Applicant: ABB公司
CPC classification number: C30B13/30 , B22D27/02 , B22D27/045 , C03B9/41 , C30B11/00 , C30B11/002 , C30B11/003 , C30B13/24 , C30B15/30 , C30B29/06 , C30B35/00 , F27B14/14 , F27B14/20 , F27D27/00 , Y10T117/1008
Abstract: 一种用于硅结晶的设备，包括：坩埚(11)，用于容纳硅；加热和散热装置(12)，被提供用于熔融坩埚中容纳的硅并且用于随后固化熔融硅；以及电磁搅拌装置(13)，被提供用于在熔融硅固化期间搅拌坩埚中的熔融硅。提供控制装置(14)用于控制加热和散热装置以按照指定的固化速率固化熔融硅并且用于响应于熔融硅的指定固化速率控制电磁搅拌装置以搅拌熔融硅使得熔融硅的速度与指定的固化速率之比在第一阈值以上。
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公开(公告)号：CN103998159A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201180075422.X
申请日：2011-12-22
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115
CPC classification number: B22D11/115 , B22D11/16
Abstract: 本发明公开了一种用于连续铸造工艺的装置(7)。该装置(7)包含容器(9a)，所述容器(9a)具有用于将熔融金属接受在容器(9a)中的第一开口(9-1)、用于将熔融金属从容器(9a)排出的第二开口(9-2)、以及在第一开口(9-1)和第二开口(9-2)之间延伸的主体(9b)，附接至主体(9b)的第一磁性装置(10)，所述第一磁性装置(10)具有带有支柱的磁芯(10-1)、和围绕支柱布置的线圈(10-3)，以及配置为向线圈(10-3)中的每一个线圈提供叠加在载流电流上的交流电流的电源系统(16)，提供至线圈(10-3)的交流电流和载流电流的每一对形成流动控制电流，其中提供至邻近线圈(10-3)的流动控制电流相对于彼此移相，由此在容器(9a)内的熔融金属中产生移动磁场。本文还提供有相应的方法。
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公开(公告)号：CN101410204B
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：CN200780011168.0
申请日：2007-04-25
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115
CPC classification number: B22D11/115
Abstract: 本发明公开了一种用于连续或半连续铸造金属的装置。所述装置包括：模具(1)；浇注管(3)，通过该浇注管熔融金属被供应到模具(1)中已经存在的在先熔融金属中且位于在先熔融金属的弯液面(7)下方的区域中；包括铁芯和绕于铁芯上的线圈的至少一个搅拌器(4)，其中，铁芯被设置成沿模具(1)的宽边是细长的，铁芯能够为熔融金属(2)提供磁场以实现对所述熔体(2)的搅拌。所述铁芯被布置成其上部定位在距所述弯液面(7)的距离处于从所述弯液面(7)的表面之上50mm到该表面之下195mm的范围内，并且所述铁芯的长度相对于所述模具(1)宽边长度的尺寸是所述宽边长度的至少50％，至多80％。
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公开(公告)号：CN101472695A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200780023131.X
申请日：2007-07-03
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115
CPC classification number: B22D11/115
Abstract: 一种用于通过向板坯连铸机中的钢水施加至少一个磁场来控制结晶器中的钢水流动的方法。这是通过以下方式实现：当弯月面上的钢水流速高于保护渣夹带临界流速时，施加静态磁场以给来自浸没喷嘴的排出流一稳定和制动力，从而将钢水熔池液面即弯月面上的钢水流速控制在预定的钢水流速，并且当弯月面上的钢水流速低于夹杂物附着临界流速时，通过施加移动磁场以增加钢水流动，从而将钢水熔池液面上的钢水流速控制在大于等于夹杂物附着临界流速到小于等于保护渣夹带临界流速的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102256725B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN200880132429.9
申请日：2008-12-17
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115 , B22D11/18 , B22D11/20
CPC classification number: B22D11/115 , B22D11/186 , B22D11/205
Abstract: 一种连续铸造设备，包括：模具(1)；电磁设备(2)，布置在模具(1)之外并且布置成用于提供施加于模具(1)中的熔化物(5)的电磁场，为该电磁设备(2)提供包括基频和谐波的电流，并且由此提供基于基频的第一电磁场和基于所述谐波的第二电磁场；以及电感传感器(3)，为了感测所述熔化物(5)的弯月面的位置的目的而布置在模具(1)处，并且在与所述谐波对应的频率下操作。该连续铸造设备包括设置在电磁设备(2)与传感器(3)之间的至少一个屏蔽(8)，并且所述屏蔽(8)被布置用于阻止第二电磁场干扰传感器(3)的操作，但是允许将第一电磁场施加于弯月面区域中的熔化物(5)上。
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公开(公告)号：CN102575376A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200980161514.2
申请日：2009-09-18
Applicant: ABB公司
CPC classification number: C30B13/30 , B22D27/02 , B22D27/045 , C03B9/41 , C30B11/00 , C30B11/002 , C30B11/003 , C30B13/24 , C30B15/30 , C30B29/06 , C30B35/00 , F27B14/14 , F27B14/20 , F27D27/00 , Y10T117/1008
Abstract: 一种用于硅结晶的设备，包括：坩埚(11)，用于容纳硅；加热和散热装置(12)，被提供用于熔融坩埚中容纳的硅并且用于随后固化熔融硅；以及电磁搅拌装置(13)，被提供用于在熔融硅固化期间搅拌坩埚中的熔融硅。提供控制装置(14)用于控制加热和散热装置以按照指定的固化速率固化熔融硅并且用于响应于熔融硅的指定固化速率控制电磁搅拌装置以搅拌熔融硅使得熔融硅的速度与指定的固化速率之比在第一阈值以上。
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公开(公告)号：CN102256725A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200880132429.9
申请日：2008-12-17
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115 , B22D11/18 , B22D11/20
CPC classification number: B22D11/115 , B22D11/186 , B22D11/205
Abstract: 一种连续铸造设备，包括：模具(1)；电磁设备(2)，布置在模具(1)之外并且布置成用于提供施加于模具(1)中的熔化物(5)的电磁场，为该电磁设备(2)提供包括基频和谐波的电流，并且由此提供基于基频的第一电磁场和基于所述谐波的第二电磁场；以及电感传感器(3)，为了感测所述熔化物(5)的弯月面的位置的目的而布置在模具(1)处，并且在与所述谐波对应的频率下操作。该连续铸造设备包括设置在电磁设备(2)与传感器(3)之间的至少一个屏蔽(8)，并且所述屏蔽(8)被布置用于阻止第二电磁场干扰传感器(3)的操作，但是允许将第一电磁场施加于弯月面区域中的熔化物(5)上。
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公开(公告)号：CN101590516A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200910203110.7
申请日：2009-05-27
Applicant: ABB公司
IPC: B22D11/115
CPC classification number: B22D41/62
Abstract: 本发明公开了一种连铸设备，包括模具、喷嘴和在模具上方且围绕喷嘴设置的电磁搅拌器，所述搅拌器包括绕喷嘴沿周向延伸的磁性材料制成的芯体(7)和缠绕在所述芯体(7)上的多个绕组(10)。绕组(10)在沿芯体(7)的周向看去时被缠绕在芯体(7)的截面上。
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