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公开(公告)号：CN100380138C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200380107933.0
申请日：2003-12-19
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司 , 弗朗霍弗应用研究促进协会
Inventor： 托布乔恩·桑兹特罗姆 , 托马斯·J·格里宾斯基 , 乌尔里克·多德斯泰特 , 乌尔里克·扬布拉德 , 克里斯琴·库纳思 , 库尔思·埃伯哈德
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/14 , B81B7/0012 , B81B2201/042 , G02B1/105 , G02B26/0833 , G03F7/70291 , G03F7/70983
Abstract: 本发明包括提高可移动微机械光学元件的抗辐射性的方法和装置。特别地，为可移动微机械光学元件添加抗辐射层，该抗辐射层适于减少由于曝光于能量小于100微焦耳/平方厘米以及波长小于或等于大约248nm的脉冲激光所产生的所述元件的表面和基体材料的改变。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1732393A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200380107933.0
申请日：2003-12-19
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司 , 弗朗霍弗应用研究促进协会
Inventor： 托布乔恩·桑兹特罗姆 , 托马斯·J·格里宾斯基 , 乌尔里克·多德斯泰特 , 乌尔里克·扬布拉德 , 克里斯琴·库纳思 , 库尔思·埃伯哈德
CPC classification number: G02B1/14 , B81B7/0012 , B81B2201/042 , G02B1/105 , G02B26/0833 , G03F7/70291 , G03F7/70983
Abstract: 本发明包括提高可移动微机械光学元件的抗辐射性的方法和装置。特别地，为可移动微机械光学元件添加抗辐射层，该抗辐射层适于减少由于曝光于能量小于100微焦耳/平方厘米以及波长小于或等于大约248nm的脉冲激光所产生的所述元件的表面和基体材料的改变。
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公开(公告)号：CN100458568C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200480036884.0
申请日：2004-12-10
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司
Inventor： 乌尔里克·扬布拉德
Abstract: 一种用于对工件构图的装置包括源、适于利用相移板和阶跃高差中的至少之一来引起相位差的至少一反射倾斜表面。一种对应于对工件构图的装置的方法。一种制造对工件构图的装置和其中所包括的空间光调制器的方法。
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公开(公告)号：CN1324344C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03806168.6
申请日：2003-03-14
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司
Inventor： 乌尔里克·扬布拉德
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及一种采用空间光调制器对至少一个电磁辐射脉冲进行调制的方法。提供至少一个机械活动调制器元件。提供至少一个能够对所述调制器元件产生力的致动元件。将地址信号提供给所述至少一个活动元件。将第一放大信号提供给属于所述至少一个活动元件的至少一个第一电极，对所述放大信号进行整形和定时以产生调制器元件中的机械响应，其表示当所述电磁辐射脉冲在照射到所述调制器元件上时所述电磁辐射脉冲的期望调制状态。
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公开(公告)号：CN1643432A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03806168.6
申请日：2003-03-14
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司
Inventor： 乌尔里克·扬布拉德
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及一种采用空间光调制器对至少一个电磁辐射脉冲进行调制的方法。提供至少一个机械活动调制器元件。提供至少一个能够对所述调制器元件产生力的致动元件。将地址信号提供给所述至少一个活动元件。将第一放大信号提供给属于所述至少一个活动元件的至少一个第一电极，对所述放大信号进行整形和定时以产生调制器元件中的机械响应，其表示当所述电磁辐射脉冲在照射到所述调制器元件上时所述电磁辐射脉冲的期望调制状态。
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公开(公告)号：CN1890609A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：CN200480036884.0
申请日：2004-12-10
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司
Inventor： 乌尔里克·扬布拉德
Abstract: 一种用于对工件构图的装置包括源、适于利用相移板和阶跃高差中的至少之一来引起相位差的至少一反射倾斜表面。一种对应于对工件构图的装置的方法。一种制造对工件构图的装置和其中所包括的空间光调制器的方法。
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