一种基于深N阱结构的单光子雪崩二极管及其制作工艺

    公开(公告)号:CN106847960B

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201710058637.X

    申请日:2017-01-23

    Abstract: 本发明请求保护一种采用p+n阱型二极管结构,同时引进保护环与深n阱结构以提高单光子雪崩二极管光电探测效率;采用合适的光窗口面积和过偏压,以获得较高的光电探测效率;通过调节其他的工艺和结构参数,可对器件的光电探测效率进行进一步的优化设计。扩散n阱保护环宽度对雪崩击穿特性影响较大,保护环宽度在0.8‑1.5μm时,器件的击穿特性较好;确定好器件的探测效率和击穿电压后,通过对器件的参数进行进一步的优化设计,可以得到较好的频率响应特性。单光子雪崩二极管器件扩散n阱保护环宽度为1μm时,雪崩击穿电压为13.2V。窗口面积直径为20μm,过偏压为1V最大探测效率高达37%;窗口面积直径为10μm,过偏压为1V时最大探测效率高达52%,过偏压为2V时最大探测效率高达55%。

    一种基于深N阱结构的单光子雪崩二极管及其制作工艺

    公开(公告)号:CN106847960A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201710058637.X

    申请日:2017-01-23

    CPC classification number: Y02P70/521 H01L31/107 H01L31/035236 H01L31/18

    Abstract: 本发明请求保护一种采用p+n阱型二极管结构,同时引进保护环与深n阱结构以提高单光子雪崩二极管光电探测效率;采用合适的光窗口面积和过偏压,以获得较高的光电探测效率;通过调节其他的工艺和结构参数,可对器件的光电探测效率进行进一步的优化设计。扩散n阱保护环宽度对雪崩击穿特性影响较大,保护环宽度在0.8‑1.5μm时,器件的击穿特性较好;确定好器件的探测效率和击穿电压后,通过对器件的参数进行进一步的优化设计,可以得到较好的频率响应特性。单光子雪崩二极管器件扩散n阱保护环宽度为1μm时,雪崩击穿电压为13.2V。窗口面积直径为20μm,过偏压为1V最大探测效率高达37%;窗口面积直径为10μm,过偏压为1V时最大探测效率高达52%,过偏压为2V时最大探测效率高达55%。

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