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公开(公告)号:CN1875477A
公开(公告)日:2006-12-06
申请号:CN200480032517.3
申请日:2004-08-03
Applicant: 通用电气公司
Inventor: 斯拉沃米尔·鲁宾茨塔杰恩 , 桑迪普·托纳皮 , 戴维·吉布森第三 , 约翰·坎贝尔 , 阿南思·普拉巴库马
CPC classification number: B82Y30/00 , C01P2004/64 , C08K9/06 , C08L63/00 , C09C1/3081 , H01L21/563 , H01L23/293 , H01L23/295 , H01L2224/73203 , H01L2924/01019 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01087 , H01L2924/01322 , H01L2924/10253 , H01L2924/12044 , H01L2924/00
Abstract: 一种溶剂改性树脂底层填料材料,包括与官能化胶态硅石填料和溶剂结合的树脂,以形成透明的B-阶段树脂组合物,然后该组合物可以固化形成低CTE、高Tg的热固性树脂。本发明的实施方案包括作为晶片级填料和电子芯片密封剂的用途。
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公开(公告)号:CN100490130C
公开(公告)日:2009-05-20
申请号:CN200480032517.3
申请日:2004-08-03
Applicant: 通用电气公司
Inventor: 斯拉沃米尔·鲁宾茨塔杰恩 , 桑迪普·托纳皮 , 戴维·吉布森第三 , 约翰·坎贝尔 , 阿南思·普拉巴库马
CPC classification number: B82Y30/00 , C01P2004/64 , C08K9/06 , C08L63/00 , C09C1/3081 , H01L21/563 , H01L23/293 , H01L23/295 , H01L2224/73203 , H01L2924/01019 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01087 , H01L2924/01322 , H01L2924/10253 , H01L2924/12044 , H01L2924/00
Abstract: 一种溶剂改性树脂底层填料材料,包括与官能化胶态硅石填料和溶剂结合的树脂,以形成透明的B-阶段树脂组合物,然后该组合物可以固化形成低CTE、高Tg的热固性树脂。本发明的实施方案包括作为晶片级填料和电子芯片密封剂的用途。
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