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公开(公告)号：CN105408265A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201480043133.5
申请日：2014-12-04
Applicant: 迪睿合株式会社
CPC classification number: B29C33/424 , B29C33/38 , B29C33/3842 , B29C35/0805 , B29C35/0888 , B29C41/28 , B29C59/04 , B29C59/046 , B29D11/0074 , B29K2909/08 , B29L2011/00 , C03C15/00 , C03C2218/34 , G03F7/0002 , G03F7/24 , G11B7/261
Abstract: 提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。
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公开(公告)号：CN105408265B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201480043133.5
申请日：2014-12-04
Applicant: 迪睿合株式会社
CPC classification number: B29C33/424 , B29C33/38 , B29C33/3842 , B29C35/0805 , B29C35/0888 , B29C41/28 , B29C59/04 , B29C59/046 , B29D11/0074 , B29K2909/08 , B29L2011/00 , C03C15/00 , C03C2218/34 , G03F7/0002 , G03F7/24 , G11B7/261
Abstract: 提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。
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公开(公告)号：CN107894691A
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201711174780.1
申请日：2014-12-04
Applicant: 迪睿合株式会社
CPC classification number: B29C33/424 , B29C33/38 , B29C33/3842 , B29C35/0805 , B29C35/0888 , B29C41/28 , B29C59/04 , B29C59/046 , B29D11/0074 , B29K2909/08 , B29L2011/00 , C03C15/00 , C03C2218/34 , G03F7/0002 , G03F7/24 , G11B7/261
Abstract: 提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。
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