公开(公告)号：CN115210067A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202180017459.0

申请日：2021-03-03

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  铃木嗣人 ,  木伏祐子

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/20 ,  G02B1/11 ,  G02B1/113 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/12 ,  B32B7/023

Abstract: 该光学层叠体(10)是由透明基材(11)、光学功能层(14)和防污层(15)依次层叠而成的光学层叠体，上述光学功能层(14)是交替层叠低折射率层(14b)和高折射率层(14a)而成的，上述防污层(15)由蒸镀防污性材料而成的蒸镀膜构成，在氟系溶剂中照射10分钟40KHz、240W的超声波进行清洗后的基于XRF的防污层中的氟原子的残留量为70％以上。

公开(公告)号：CN115175806A

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN202180017403.5

申请日：2021-03-03

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 铃木嗣人 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  渡边贵久 ,  木伏祐子 ,  小林智明

IPC: B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  B32B27/20 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  C23C14/06

Abstract: 该光学层叠体的制造方法是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：密合层形成工序，形成密合层；光学功能层形成工序，形成光学功能层；表面处理工序，以下述(式1)所表示的表面粗糙度的变化率为1～25％的方式对前述光学功能层的表面进行处理；以及防污层形成工序，在进行了表面处理的前述光学功能层上形成防污层。表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)‑1)×100(％)···式(1)(式(1)中，Ra1表示处理表面之前的光学功能层的表面粗糙度(Ra)，Ra2表示处理表面之后的光学功能层的表面粗糙度(Ra))。

公开(公告)号：CN119137511A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202380038265.8

申请日：2023-04-20

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 森山浩伸 ,  小林智明 ,  雪下皓平

IPC: G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本光学层叠体依次层叠有透明基材、硬涂层、密合层、光学功能层以及防污层，使用肖氏D硬度为40且直径为0.8mm的滑动件，以载荷250g进行了500个往复的滑动试验时，滑动部位的滑动前后的L*a*b*表色系中的b*值的变化量Δb*的绝对值为1.9以下。

公开(公告)号：CN116075750A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180054441.8

申请日：2021-09-08

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  铃木嗣人 ,  木伏祐子

IPC: G02B1/113

Abstract: 该光学层叠体的制造方法是依次层叠塑料薄膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，其包括形成密合层的密合层形成工序、形成光学功能层的光学功能层形成工序、以规定的式(1)所示的表面粗糙度的变化率为5～35％或规定的式(2)所示的要素的平均长度的变化率为7～70％的方式对所述光学功能层的表面进行处理的表面处理工序和在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序。

公开(公告)号：CN115812032A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202180048162.0

申请日：2021-07-16

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 铃木嗣人 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  渡边贵久 ,  木伏祐子 ,  小林智明

IPC: B32B9/00

Abstract: 该光学层叠体的制造方法是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：形成密合层的密合层形成工序、形成光学功能层的光学功能层形成工序、对所述光学功能层的表面进行辉光放电处理的表面处理工序、以及在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序，所述辉光放电处理的累积输出为130W·min/m2以上且2000W·min/m2以下。

公开(公告)号：CN116368405A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202180074516.9

申请日：2021-11-25

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明

IPC: G02B1/115

Abstract: 该光学层叠体依次层叠有透明基材、光学功能层和防污层，使基于标准光源D65的波长380nm～780nm的光以入射角5°～50°入射至表面时的反射光在CIE‑Lab表色系中的a*值和b*值在a*b*平面上的同一象限内。

公开(公告)号：CN115803190A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202180048881.2

申请日：2021-07-16

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  铃木嗣人 ,  木伏祐子

IPC: B32B9/00

Abstract: 该光学层叠体是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，上述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·1天)以下，与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后的考虑了正反射光的(SCI)反射色的色相变化ΔE值小于10。

公开(公告)号：CN115917366A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180051438.0

申请日：2021-09-08

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明 ,  黄臻 ,  铃木克利 ,  铃木嗣人 ,  木伏祐子

IPC: G02B1/113

Abstract: 该光学层叠体(101)是依次层叠塑料薄膜(11)、密合层(13)、光学功能层(14)和防污层(15)而成的光学层叠体，防污层(15)由蒸镀防污性材料而成的蒸镀膜构成，防污层(15)的膜厚为2.5nm以上，水蒸气透过率为1.5g/(m2·1天)以下，与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后的将正反射光考虑在内(SCI)的反射色的色相变化ΔE值小于10。

公开(公告)号：CN113973501A

公开(公告)日：2022-01-25

申请号：CN202180003487.7

申请日：2021-05-17

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小林智明

IPC: G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。其依次具有基材(10)、硬涂层(20)、密合层(30)和防反射层(40)，防反射层从密合层(30)侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层(411)、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层(412)、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层(413)、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层(414)。