公开(公告)号：CN105102666A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201380059275.6

申请日：2013-10-25

申请人： 贺利氏德国有限责任两合公司

发明人： M.施洛特 ,  C.C.施塔尔

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  H01J37/34 ,  C03C17/245

CPC分类号： H01J37/3429 ,  C23C14/083 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3426

摘要： 本发明涉及具有金属氧化物溅射材料的溅射靶，其中该溅射材料包含锆和钛作为金属，其中该溅射材料含有至少一种混合氧化物相。

公开(公告)号：CN105593400A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201480055081.3

申请日：2014-10-06

申请人： 贺利氏德国有限责任两合公司

发明人： C.西蒙斯 ,  C.C.施塔尔 ,  J.瓦格纳

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C4/06 ,  C23C4/134

CPC分类号： H01J37/3429 ,  C23C4/06 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C14/08 ,  C23C14/081 ,  C23C14/082 ,  C23C14/083 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3414 ,  G02B1/12

摘要： 本发明涉及用于制造层，特别是光学层的溅射靶。本发明还涉及层，特别是光学层，和用于制造溅射靶的装置。此外，本发明涉及制造溅射靶的方法。根据本发明例如如下：该溅射靶进一步包含至少一种金属氧化物或进一步包含至少一种由至少两种金属氧化物构成的组合或进一步包含合金形式或混合物形式的至少一种金属氧化物的组合，以通过元素Si和Al或其合金和通过所述至少一种金属氧化物或其组合生成具有金属氧化物成分的溅射靶。该溅射靶中的金属氧化物优选是选自ZrO2、Ta2O5、Y2O3、HfO、CaO、MgO、Ce2O3、Al2O3、TiO2或Nb2O5的金属氧化物。