金属氧化物半导体混成静态感应半导体闸流管

    公开(公告)号:CN1044172C

    公开(公告)日:1999-07-14

    申请号:CN92112889.4

    申请日:1992-11-09

    CPC classification number: H01L29/7392

    Abstract: 在MOS混成S1闸流管中,以级联关系联在S1闸流管单元上的S1闸流管单元、MOS晶体管和稳压元件被合并集成在单一芯片上。S1闸流管单元具有高杂质浓度第一导电类型的阴极区、高杂质浓度第二导电类型的栅极区和低杂质浓度第一导电型的沟道区。MOS管具有与阴极区相同的漏极区,一在沟道区附近形成的第二导电型的阱或基极以及高杂质浓度第一导电型的源极区。在阱或基极上形成源极区。稳压元件含第二导电型的第一半导体区和第一导电型的第二半导体区,二者都具高杂质浓度。

    金属氧化物半导体混成静态感应半导体闸流管

    公开(公告)号:CN1075030A

    公开(公告)日:1993-08-04

    申请号:CN92112889.4

    申请日:1992-11-09

    CPC classification number: H01L29/7392

    Abstract: 在MOS混成S1闸流管中,以级联关系联在S1闸流管单元上的S1闸流管单元、MOS晶体管和稳压元件被合并集成在单一芯片上。S1闸流管单元具有高杂质浓度第一导电类型的阴极区、高杂质浓度第二导电类型的栅极区和低杂质浓度第一导电型的沟道区。MOS管具有与阴极区相同的漏极区,一在沟道区附近形成的第二导电型的井或基极以及高杂质浓度第一导电型的源极区。在井或基极上形成源极区。稳压元件含第二导电型的第一半导体区和第一导电型的第二半导体区,二者都具高杂质浓度。

    静电感应器件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1054703C

    公开(公告)日:2000-07-19

    申请号:CN93103674.7

    申请日:1993-03-04

    Inventor: 西泽润一

    CPC classification number: H01L27/0817 H01L29/7392

    Abstract: 一种静电感应器件(SI器件)至少包括一个SI晶闸管结构,一个IGT和一个电容器,它们均合装在单个单片上。该SI晶闸管具有一个阴极、一个阳极、一个栅区和一个沟道。该IGT具有一个位于沟道表面的阱、一个源极和一个漏极位于阱内,一个栅极绝缘膜形成在阱上,并有一个栅电极位于栅绝缘膜上。电容器包括SI晶闸管的栅区、位于此栅区的栅绝缘膜和栅极。该阴极和漏区通过一高导电极相互连接。

    静态感应装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1081536A

    公开(公告)日:1994-02-02

    申请号:CN93103674.7

    申请日:1993-03-04

    Inventor: 西泽润一

    CPC classification number: H01L27/0817 H01L29/7392

    Abstract: 一种静态感应装置(SI装置)至少包括一个SI晶闸管结构,一个IGT和一个电容器,它们均合装在一单个单片上。该SI晶闸管具有一个阴极,一个阳极和一个栅区,一个沟道。该IGT具有一个位于沟道表面的阱,一个源极和一个漏极位于阱内,一个栅极绝缘膜形成在阱上,并且一个栅电极位于栅绝缘膜上。电容器包括SI晶闸管的栅区,位于此栅区的栅绝缘膜和栅极。该阴极和漏区通过一高导电极相互连接。

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