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公开(公告)号:CN1144402A
公开(公告)日:1997-03-05
申请号:CN96110070.2
申请日:1996-05-22
Applicant: 财团法人半导体研究振兴会
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L29/66416 , H01L29/0619 , H01L29/41741 , H01L29/42316 , H01L29/7722
Abstract: 一种击穿电压高的凹型静态晶体管,包括:设置在n+型漏区的n型沟道区,在沟道槽中的p+型伸长栅区,在沟道区形成的和栅区平行的n+型伸长区,其中每一个设置在栅区之间,在沟道区中的围绕栅区的p+型保护环区。伸长栅区在两边与保护环区耦连,最外部的伸长栅区在纵向与保护环区分别耦连,以增加器件的击穿电压。栅和源接触点仅在保护环区彼此相对设置,以减少栅漏区之间和栅源区之间的寄生电容。
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公开(公告)号:CN1087504C
公开(公告)日:2002-07-10
申请号:CN96110070.2
申请日:1996-05-22
Applicant: 财团法人半导体研究振兴会
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L29/66416 , H01L29/0619 , H01L29/41741 , H01L29/42316 , H01L29/7722
Abstract: 一种击穿电压高的凹型静态晶体管,包括:设置在n+型漏区的n型沟道区,在沟道槽中的P+型伸长栅区,在沟道区形成的和栅区平行的n+型伸长区,其中每一个设置在栅区之间,在沟道区中的围绕栅区的P+型保护环区。伸长栅区在两边与保护环区耦连,最外部的伸长栅区在纵向与保护环区分别耦连,以增加器件的击穿电压。栅和源接触点仅在保护环区彼此相对设置,以减少栅漏区之间和栅源区之间的寄生电容。
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