半导体掺杂分布的精确测量方法

    公开(公告)号:CN100561702C

    公开(公告)日:2009-11-18

    申请号:CN200810017335.9

    申请日:2008-01-18

    Abstract: 半导体掺杂分布的精确测量方法,在传统KMK方法的测量结果上,考虑耗尽区的影响,通过迭代收敛的修正方法得出真实的掺杂浓度分布,突破了测量精度的限制,利用由数值模拟得到的过渡区多子分布关系式,避免了重复求解泊松方程;提出新的收敛公式有效提高了收敛速度并成功解决了结果的“不收敛”和“不唯一”问题;建立了新的收敛比较标准,省去了C-x转化为C-V的繁复计算过程。整个数据处理步骤清楚,简便易行。

    一种采用工艺偏差补偿结构的电压基准源

    公开(公告)号:CN101221455A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200710018664.0

    申请日:2007-09-14

    Inventor: 邵志标 傅懿斌

    Abstract: 一种采用工艺偏差补偿结构的电压基准源,采用工艺偏差补偿电阻,连接在晶体管基极,使得晶体管基极-发射极电压与工艺偏差补偿电阻Rb1上电压之和不受工艺偏差的影响,从而得到初始精度高、无需修正的高精度电压基准源。

    半导体掺杂分布的精确测量方法

    公开(公告)号:CN101252098A

    公开(公告)日:2008-08-27

    申请号:CN200810017335.9

    申请日:2008-01-18

    Abstract: 半导体掺杂分布的精确测量方法,在传统KMK方法的测量结果上,考虑耗尽区的影响,通过迭代收敛的修正方法得出真实的掺杂浓度分布,突破了测量精度的限制,利用由数值模拟得到的过渡区多子分布关系式,避免了重复求解泊松方程;提出新的收敛公式有效提高了收敛速度并成功解决了结果的“不收敛”和“不唯一”问题;建立了新的收敛比较标准,省去了C-x转化为C-V的繁复计算过程。整个数据处理步骤清楚,简便易行。

    一种采用工艺偏差补偿结构的电压基准源

    公开(公告)号:CN100576132C

    公开(公告)日:2009-12-30

    申请号:CN200710018664.0

    申请日:2007-09-14

    Inventor: 邵志标 傅懿斌

    Abstract: 一种采用工艺偏差补偿结构的电压基准源,采用工艺偏差补偿电阻,连接在晶体管基极,使得晶体管基极-发射极电压与工艺偏差补偿电阻Rb1上电压之和不受工艺偏差的影响,从而得到初始精度高、无需修正的高精度电压基准源。

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