一种凹槽阳极平面耿氏二极管及制作方法

    公开(公告)号:CN109742232B

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN201811410331.7

    申请日:2018-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种凹槽阳极平面耿氏二极管,包括:衬底;成核层,位于衬底上;背势垒层,位于成核层上;沟道层,位于背势垒层上;势垒层,位于沟道层上;势垒层和沟道层上设置有凹槽,凹槽将沟道层和势垒层形成的2DEG沟分割为第一2DEG沟道和第二2DEG沟道;阳极,位于凹槽中和势垒层上;阴极,位于背势垒层上;介质层,位于势垒层上。本发明实施例利用凹槽形成两个并联的平面耿氏二极管,通过改变两个沟道的长度来改变沟道中电子畴的运动,实现器件工作频率和输出功率的自由调控,对提高器件工作频率和输出功率的研究具有重要意义。

    一种凹槽阳极平面耿氏二极管及制作方法

    公开(公告)号:CN109742232A

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201811410331.7

    申请日:2018-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种凹槽阳极平面耿氏二极管,包括:衬底;成核层,位于衬底上;背势垒层,位于成核层上;沟道层,位于背势垒层上;势垒层,位于沟道层上;势垒层和沟道层上设置有凹槽,凹槽将沟道层和势垒层形成的2DEG沟分割为第一2DEG沟道和第二2DEG沟道;阳极,位于凹槽中和势垒层上;阴极,位于背势垒层上;介质层,位于势垒层上。本发明实施例利用凹槽形成两个并联的平面耿氏二极管,通过改变两个沟道的长度来改变沟道中电子畴的运动,实现器件工作频率和输出功率的自由调控,对提高器件工作频率和输出功率的研究具有重要意义。

Patent Agency Ranking