压力传感器
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112291690B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202010704242.4

    申请日:2020-07-21

    Abstract: 本公开的实施例涉及压力传感器。提供了压力传感器及其制造方法。压力传感器可以包括:无盖结构,限定用于密封环境的内部腔室并且呈现孔;芯片,包括能够在外部压力的基础上变形的隔膜,芯片以与孔对应的方式安装在无盖结构的外部,使得隔膜封闭密封环境;以及电路系统,被配置为基于隔膜的变形来提供压力测量信息。制造至少一个压力传感器的方法可以包括:准备具有腔的叠层结构,腔通过孔与外部环境流体连通,使得叠层结构具有施加在其上的电路系统;从外部侧将芯片安装到与孔相对应的叠层结构上,芯片包括能够在外部压力的基础上变形的隔膜,隔膜封闭腔的内部环境;以及施加密封材料以在由隔膜、密封材料和叠层结构限定的空间内获得密封环境。

    压力传感器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112291690A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202010704242.4

    申请日:2020-07-21

    Abstract: 本公开的实施例涉及压力传感器。提供了压力传感器及其制造方法。压力传感器可以包括:无盖结构,限定用于密封环境的内部腔室并且呈现孔;芯片,包括能够在外部压力的基础上变形的隔膜,芯片以与孔对应的方式安装在无盖结构的外部,使得隔膜封闭密封环境;以及电路系统,被配置为基于隔膜的变形来提供压力测量信息。制造至少一个压力传感器的方法可以包括:准备具有腔的叠层结构,腔通过孔与外部环境流体连通,使得叠层结构具有施加在其上的电路系统;从外部侧将芯片安装到与孔相对应的叠层结构上,芯片包括能够在外部压力的基础上变形的隔膜,隔膜封闭腔的内部环境;以及施加密封材料以在由隔膜、密封材料和叠层结构限定的空间内获得密封环境。

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