公开(公告)号：CN102998913A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210579413.0

申请日：2012-12-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 陈涛 ,  孙立宁 ,  潘明强 ,  刘吉柱 ,  王阳俊 ,  陈立国 ,  汝长海 ,  任子武 ,  郭浩 ,  厉茂海 ,  陈国栋 ,  林锐

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种同步定位光刻曝光装置及方法，该装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置，所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置，所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。本发明通过控制压电陶瓷运动模块运动时间与曝光时间的匹配关系，从而达到精确的同步定位曝光，消除运动曝光误差。

公开(公告)号：CN102998913B

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201210579413.0

申请日：2012-12-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 陈涛 ,  孙立宁 ,  潘明强 ,  刘吉柱 ,  王阳俊 ,  陈立国 ,  汝长海 ,  任子武 ,  郭浩 ,  厉茂海 ,  陈国栋 ,  林锐

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种同步定位光刻曝光装置及方法，该装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置，所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置，所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。本发明通过控制压电陶瓷运动模块运动时间与曝光时间的匹配关系，从而达到精确的同步定位曝光，消除运动曝光误差。

公开(公告)号：CN202995256U

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201220734975.3

申请日：2012-12-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 陈涛 ,  孙立宁 ,  潘明强 ,  刘吉柱 ,  王阳俊 ,  陈立国 ,  汝长海 ,  任子武 ,  郭浩 ,  厉茂海 ,  陈国栋 ,  林锐

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开了一种同步定位光刻曝光装置，该装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置，所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置，所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。本实用新型通过控制压电陶瓷运动模块运动时间与曝光时间的匹配关系，从而达到精确的同步定位曝光，消除运动曝光误差。