用来在过程中使离子源清洁的系统和方法

    公开(公告)号:CN1199223C

    公开(公告)日:2005-04-27

    申请号:CN99104445.2

    申请日:1999-03-29

    Abstract: 一种用来使离子源(12)清洁的方法和系统。该离子源包括等离子体腔室(22),可电离的掺杂气体源(66)和用来把可电离掺杂气体引进等离子体腔室中的质量流量控制器(68),清理气体源(182)和用来把清理气体引进等离子体腔室中的质量流量控制器(184),至少部分地设置在腔室内的射频天线(130),用来把能量赋予可电离的掺杂气体和清理气体,以在等离子体腔室内产生等离子体。等离子体包括掺杂气体的被分解和被电离的组分和清理气体的被分解和被电离的组分。

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