-
公开(公告)号：CN1328751C
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN02815423.1
申请日：2002-08-07
申请人： 肖特股份公司
IPC分类号： H01J37/32 , C23C16/50 , C23C16/517
CPC分类号： H01J37/32229 , C23C16/511 , H01J37/32192
摘要： 本发明涉及一种用于对物体进行涂层的装置。本装置配备具有下列特征：具有一个唯一的微波源；具有两个或多个涂层室；所有涂层室连接在所述唯一的微波源上；设有一个阻抗结构或一个波导管结构用于将产生等离子体的微波能量分配到各涂层室中。本装置还包括一个H形的波导管或同轴导体结构，该导体结构包括一个短臂(3)以及两个侧腿(4，4′)并且连接在所述两个或多个处理室(10，10′)之前；所述短臂(3)通过一个输入导体(2)连接到所述唯一的微波源；以及，每个侧腿(4，4′)具有一个背离相关的处理室(10，10′)的第一区段(4.1，4.1′)以及一个面朝所述两个或多个处理室(10，10′)的第二区段(4.2，4.2′)。
-
公开(公告)号：CN101225514B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200710199782.6
申请日：2007-11-09
申请人： 肖特股份公司
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/513 , C23C16/517 , C23C16/52 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/515 , C23C16/45512 , C23C16/45523 , C23C16/45591
摘要： 在使用包括PECVD和PICVD方法的CVD方法的情况下，本发明的目的在于避免杂质并尽可能定时定量精确供应用于目标层系统的过程气体。为此，本发明提供一种涂敷系统和涂敷具有交替层的制品的方法，在这种情况下，将过程气体以交替形式引入到气体混合点并与另一气体混合，然后导入反应室，在反应室中通过产生等离子体来进行沉积。
-
公开(公告)号：CN101225514A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200710199782.6
申请日：2007-11-09
申请人： 肖特股份公司
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/513 , C23C16/517 , C23C16/52 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/515 , C23C16/45512 , C23C16/45523 , C23C16/45591
摘要： 在使用包括PECVD和PICVD方法的CVD方法的情况下，本发明的目的在于避免杂质并尽可能定时定量精确供应用于目标层系统的过程气体。为此，本发明提供一种涂敷系统和涂敷具有交替层的制品的方法，在这种情况下，将过程气体以交替形式引入到气体混合点并与另一气体混合，然后导入反应室，在反应室中通过产生等离子体来进行沉积。
-
公开(公告)号：CN1648009A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510004124.8
申请日：2005-01-07
申请人： 肖特股份公司
CPC分类号： A45D33/18 , A45D34/00 , A45D2034/007 , A45D2200/053 , B65D23/02 , B65D2203/00
摘要： 本发明涉及一种容器(1)，以扩展用于容器特别是香水瓶的造型可能性，所述容器包括一个至少局部透明的空心体(2)和一个装饰件(3)，其特征在于：所述装饰件(3)具有空心体(2)的至少一个内部衬套(35)。在一种这样的具有一个装饰件(3)的容器特别是香水瓶中，基本上排除了装一种在容器中的产品的内含物质与装饰件的组成部分发生的反应，本发明还提出一种容器(1)，该容器包括一个空心体(2)，其中，所述空心体(2)具有一个至少局部透明的第一区域(20)以及在至少一个第二区域(30)内至少在空心体(2)的内侧(22)的一个装饰件(3)，和一个第三区域(40)，该区域与第一区域(20)和/或第二区域(30)连接。
-
-
-
搜索结果
4 条记录 (耗时 0.024 秒)
