公开(公告)号：CN105304550B

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201410858450.4

申请日：2014-12-23

申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 ,  陶氏环球技术有限公司 ,  罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 沈载桓 ,  朴琎洪 ,  林载峰 ,  赵廷奎 ,  徐承柏 ,  朴钟根 ,  李明琦 ,  P·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/762

CPC分类号： H01L21/76224 ,  H01L21/31058

摘要： 间隙填充方法。提供了一种间隙填充方法，所述方法包括：(a)提供半导体衬底，该半导体衬底具有在所述衬底的表面上的浮雕图像，该浮雕图像包括多个待填充间隙；(b)将间隙填充组合物涂覆到该浮雕图像上，其中该间隙填充组合物包含未交联的可交联聚合物、酸催化剂、交联剂和溶剂，其中所述可交联聚合物包括以下通式(I)的第一单元以及以下通式(II)的第二单元；(c)加热该间隙填充组合物到使聚合物交联的温度。

公开(公告)号：CN105304550A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201410858450.4

申请日：2014-12-23

申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 ,  陶氏环球技术有限公司 ,  罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 沈载桓 ,  朴琎洪 ,  林载峰 ,  赵廷奎 ,  徐承柏 ,  朴钟根 ,  李明琦 ,  P·D·胡斯塔德

IPC分类号： H01L21/762

CPC分类号： H01L21/76224 ,  H01L21/31058

摘要： 间隙填充方法。提供了一种间隙填充方法，所述方法包括：(a)提供半导体衬底，该半导体衬底具有在所述衬底的表面上的浮雕图像，该浮雕图像包括多个待填充间隙；(b)将间隙填充组合物涂覆到该浮雕图像上，其中该间隙填充组合物包含未交联的可交联聚合物、酸催化剂、交联剂和溶剂，其中所述可交联聚合物包括以下通式(I)的第一单元以及以下通式(II)的第二单元；(c)加热该间隙填充组合物到使聚合物交联的温度。

公开(公告)号：CN109143783B

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN201810563354.5

申请日：2018-06-02

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 李惠元 ,  沈载桓 ,  S·J·林 ,  朴琎洪 ,  Y·R·申

IPC分类号： G03F7/09 ,  C09D5/00 ,  C09D167/00

摘要： 在优选的方面，提供了有机涂料组合物，特别是与外涂光致抗蚀剂一起使用的抗反射涂料组合物，其包含1)一个或多个经取代尿嘧啶部分；和2)一个或多个反应的二羧酸基团。

公开(公告)号：CN106647170B

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201610996096.0

申请日：2016-10-28

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： E-H·柳 ,  朴琎洪 ,  Y·R·申 ,  J-H·康 ,  李晶真 ,  林载峰

IPC分类号： G03F7/09 ,  C09D5/00 ,  C09D167/00 ,  C08J3/24

摘要： 本发明提供有机涂料组合物，确切地说与外涂布光致抗蚀剂一起使用的抗反射涂层组合物，其在第一方面中包含含下式(I)结构的交联剂组分：

公开(公告)号：CN109725492B

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN201811178032.5

申请日：2018-10-10

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 李晶真 ,  J-Y·安 ,  Y-R·申 ,  朴琎洪 ,  沈载桓

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/40 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  C09D5/00 ,  C09D167/00

摘要： 提供了包括能够显示出标准等离子体蚀刻剂增强的蚀刻速率的抗反射组合物的新的组合物和方法。相对于现有组合物，本发明优选的抗反射涂料组合物具有降低的碳含量。

公开(公告)号：CN111116357A

公开(公告)日：2020-05-08

申请号：CN201911034549.1

申请日：2019-10-29

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 沈载桓 ,  S·金 ,  朴琎洪 ,  金明烈 ,  Y-J·姜 ,  林载峰

IPC分类号： C07C59/01 ,  C07C59/285 ,  C07C59/245 ,  C07C31/20 ,  C07C31/22 ,  C08G63/685 ,  C09D167/00

摘要： 形成用于EUV光刻工艺的抗蚀剂底层膜的涂料组合物。提供了一种由化学式(1)表示的单体： 其中X、Y和Z与说明书中描述的相同，以及一种包含衍生自所述单体的重复单元的聚合物。

公开(公告)号：CN109143783A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810563354.5

申请日：2018-06-02

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 李惠元 ,  沈载桓 ,  S·J·林 ,  朴琎洪 ,  Y·R·申

IPC分类号： G03F7/09 ,  C09D5/00 ,  C09D167/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G18/092 ,  C08G18/168 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/792 ,  C09D175/04 ,  G03F7/162 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  C09D5/006 ,  C09D167/00

摘要： 在优选的方面，提供了有机涂料组合物，特别是与外涂光致抗蚀剂一起使用的抗反射涂料组合物，其包含1)一个或多个经取代尿嘧啶部分；和2)一个或多个反应的二羧酸基团。

公开(公告)号：CN106814543A

公开(公告)日：2017-06-09

申请号：CN201611015528.1

申请日：2016-11-18

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： 沈载桓 ,  赵廷奎 ,  E·曹 ,  李惠元 ,  朴琎洪 ,  E·H·柳 ,  林载峰

IPC分类号： G03F7/11 ,  C09D133/14 ,  C08F8/14 ,  C08F120/32

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/325 ,  C08G63/685 ,  C08G63/78 ,  C09D5/006 ,  C09D133/08 ,  C09D133/14 ,  C09D167/00 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/327 ,  G03F7/11 ,  C08F8/14 ,  C08F120/32

摘要： 在一个优选方面，提供了有机涂料组合物，特别是与外涂布光致抗蚀剂一起使用的抗反射涂料组合物，所述组合物包含1)一个或多个缩水甘油基；和2)一个或多个芳香族基，每个芳香族基包含两个或更多个包含羟基、硫醇和/或胺部分的取代基。还提供了含儿茶酚聚合物及其制备方法。

公开(公告)号：CN115407606A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202210579372.9

申请日：2022-05-25

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 ,  罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明人： J·J·李 ,  J·H·沈 ,  S·金 ,  朴琎洪 ,  B·波普尔

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/115

摘要： 一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含可交联基团；第二聚合物，该第二聚合物包含：第一重复单元以及第二重复单元，该第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元，该第二重复单元包含羟基取代的C1‑30烷基、羟基取代的C3‑30环烷基或羟基取代的C6‑30芳基；酸催化剂；以及溶剂。

公开(公告)号：CN113527571A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202110278131.6

申请日：2021-03-15

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司

发明人： J·J·李 ,  S·金 ,  张珉敬 ,  朴琎洪 ,  沈载桓 ,  林载峰

IPC分类号： C08F220/20 ,  C08F220/32 ,  C08F220/36 ,  G03F7/20 ,  C09D133/14

摘要： 公开了一种聚合物，其包含：包含由烷氧基羰基保护的氨基的第一重复单元；包含亲核基团的第二重复单元；以及包含可交联基团的第三重复单元，其中所述第一重复单元、所述第二重复单元和所述第三重复单元彼此不同。