公开(公告)号：CN115407606A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202210579372.9

申请日：2022-05-25

申请人： 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 ,  罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明人： J·J·李 ,  J·H·沈 ,  S·金 ,  朴琎洪 ,  B·波普尔

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/115

摘要： 一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含可交联基团；第二聚合物，该第二聚合物包含：第一重复单元以及第二重复单元，该第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元，该第二重复单元包含羟基取代的C1‑30烷基、羟基取代的C3‑30环烷基或羟基取代的C6‑30芳基；酸催化剂；以及溶剂。

公开(公告)号：CN109081921A

公开(公告)日：2018-12-25

申请号：CN201810573028.2

申请日：2018-06-06

申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明人： S·M·科莱 ,  P·J·拉博姆 ,  山田晋太郎 ,  C·W·卡里尔 ,  崔莉 ,  B·波普尔

IPC分类号： C08G77/20 ,  C08G77/06 ,  G03F1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

摘要： 硅基硬掩模。提供了用于形成较薄的含硅抗反射涂层的组合物和使用这些组合物制造电子装置的方法。由这些组合物形成的含硅抗反射涂层可以在加工期间容易地去除，而不需要单独的去除步骤。

公开(公告)号：CN109081921B

公开(公告)日：2021-07-06

申请号：CN201810573028.2

申请日：2018-06-06

申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明人： S·M·科莱 ,  P·J·拉博姆 ,  山田晋太郎 ,  C·W·卡里尔 ,  崔莉 ,  B·波普尔

IPC分类号： C08G77/20 ,  C08G77/06 ,  G03F1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

摘要： 硅基硬掩模。提供了用于形成较薄的含硅抗反射涂层的组合物和使用这些组合物制造电子装置的方法。由这些组合物形成的含硅抗反射涂层可以在加工期间容易地去除，而不需要单独的去除步骤。

公开(公告)号：CN114253071A

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN202111117990.3

申请日：2021-09-22

申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明人： K·杨 ,  E·阿卡德 ,  J·F·卡梅伦 ,  S·M·科莱 ,  M·哥斯瓦米 ,  李忠奉 ,  B·波普尔 ,  J·W·萨克莱 ,  B·温宁

IPC分类号： G03F7/004

摘要： 光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，其包含含有羟基‑芳基基团的第一重复单元和含有酸不稳定基团的第二重复单元，其中，所述第一聚合物不包含内酯基团；第二聚合物，其包含含有羟基‑芳基基团的第一重复单元、含有酸不稳定基团的第二重复单元、和含有内酯基团的第三重复单元；光酸产生剂；以及溶剂。