发明授权
- 专利标题： 硅基硬掩模
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申请号： CN201810573028.2申请日： 2018-06-06
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公开(公告)号： CN109081921B公开(公告)日： 2021-07-06
- 发明人: S·M·科莱 , P·J·拉博姆 , 山田晋太郎 , C·W·卡里尔 , 崔莉 , B·波普尔
- 申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 申请人地址： 美国马萨诸塞州
- 专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 当前专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 当前专利权人地址： 美国马萨诸塞州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 陈哲锋; 胡嘉倩
- 优先权： 15/622220 20170614 US
- 主分类号： C08G77/20
- IPC分类号： C08G77/20 ; C08G77/06 ; G03F1/76 ; G03F7/004 ; G03F7/075
摘要：
硅基硬掩模。提供了用于形成较薄的含硅抗反射涂层的组合物和使用这些组合物制造电子装置的方法。由这些组合物形成的含硅抗反射涂层可以在加工期间容易地去除，而不需要单独的去除步骤。
公开/授权文献
- CN109081921A 硅基硬掩模 公开/授权日：2018-12-25
