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公开(公告)号：CN109799606A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201811365018.6
申请日：2018-11-16
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
Abstract: 本发明涉及一种微机械构件，其具有保持装置(12)、带有反射表面的微镜(10)和至少一个弹簧(14a，14b)，其中，所述微镜(10)至少通过所述至少一个弹簧(14a，14b)这样与所述保持装置(12)连接，使得所述微镜(10)相对于所述保持装置(12)能围绕至少一个旋转轴线(16)调整，其中，所述反射表面至少部分地构造在所述微镜(10)的张紧的膜片(18)的第一膜片表面(18a)上，并且所述微镜具有指向离开所述第一膜片表面(18a)方向的、在空气或真空中张紧的第二膜片表面(18b)。此外，本发明涉及一种微机械构件的制造方法。
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公开(公告)号：CN111629991B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN201880086088.X
申请日：2018-11-30
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
Abstract: 本发明涉及一种内插器衬底、一种MEMS设备以及一种相应的制造方法。内插器衬底(1)配备有前侧(VS)和后侧(RS)；从所述后侧(RS)出发的腔(K1a；K1b)，该腔延伸直至第一深度(t1)；贯通开口(V)；和布置在所述腔(K1a；K1b)和所述贯通开口(V)之间的沉降区域(ST1；ST2)，所述沉降区域从所述后侧(RS)出发相对于所述后侧(RS)沉降直至第二深度(t2)；其中，所述第一深度(t1)大于所述第二深度(t2)。
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公开(公告)号：CN109799606B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN201811365018.6
申请日：2018-11-16
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
Abstract: 本发明涉及一种微机械构件，其具有保持装置(12)、带有反射表面的微镜(10)和至少一个弹簧(14a，14b)，其中，所述微镜(10)至少通过所述至少一个弹簧(14a，14b)这样与所述保持装置(12)连接，使得所述微镜(10)相对于所述保持装置(12)能围绕至少一个旋转轴线(16)调整，其中，所述反射表面至少部分地构造在所述微镜(10)的张紧的膜片(18)的第一膜片表面(18a)上，并且所述微镜具有指向离开所述第一膜片表面(18a)方向的、在空气或真空中张紧的第二膜片表面(18b)。此外，本发明涉及一种微机械构件的制造方法。
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公开(公告)号：CN111629991A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201880086088.X
申请日：2018-11-30
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
Abstract: 本发明涉及一种内插器衬底、一种MEMS设备以及一种相应的制造方法。内插器衬底(1)配备有前侧(VS)和后侧(RS)；从所述后侧(RS)出发的腔(K1a；K1b)，该腔延伸直至第一深度(t1)；贯通开口(V)；和布置在所述腔(K1a；K1b)和所述贯通开口(V)之间的沉降区域(ST1；ST2)，所述沉降区域从所述后侧(RS)出发相对于所述后侧(RS)沉降直至第二深度(t2)；其中，所述第一深度(t1)大于所述第二深度(t2)。
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公开(公告)号：CN118160055A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280072145.5
申请日：2022-10-12
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
IPC: H01F41/30
Abstract: 本发明涉及一种用于通过下述方式使半导体设备(12)的至少一个区域(10)磁化的方法：借助第一光束(14)至少将所述至少一个区域(10)的反铁磁层(10a)加热到至少所述反铁磁层(10a)的阈值温度，和至少在冷却所述至少一个区域(10)的先前至少被加热到所述阈值温度的反铁磁层(10a)期间，在在所述至少一个区域(10)的铁磁层(10b)中待引起的磁化的第一方向上施加第一外部磁场，其中，在借助所述第一光束(14)至少将所述至少一个区域(10)的反铁磁层(10a)加热到至少所述反铁磁层(10a)的阈值温度之前，在所述半导体设备(12)的包括所述至少一个区域(10)的至少第一子容积(12a)上和/或中布置至少一个吸收和/或抗反射层(16)。
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