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公开(公告)号：CN119694965A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202311647574.3
申请日：2023-12-04
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够预防基板的剧烈的温度变化并保持一定温度的静电卡盘、等离子体处理方法以及等离子体处理装置。在根据本发明的等离子体处理装置中支承基板的静电卡盘包括：定位盘，安放用于等离子体处理的基板且在内部内置有加热器；以及底板，位于所述定位盘的下方，并在内部形成有供用于冷却的流体流动的冷却流路。在所述底板的内部形成由相变材料(phase change material)构成的温度保持层。
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