公开(公告)号：CN118073163A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202310047383.7

申请日：2023-01-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 裵容浚 ,  李承杓 ,  朴东俊 ,  朴昶彦 ,  金树圆 ,  金图映

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种使得缩小覆盖窗体的区域的同时空气向窗体的整体区域流动的冷却板及包括其的等离子体处理腔室。根据本发明，用于冷却在上部密闭等离子体处理空间的窗体的冷却板包括：主体，提供为覆盖所述窗体的中心一部分区域的圆盘形状；流入口，供气体向所述主体流入；以及排出口，供所述气体从所述主体向所述窗体喷出，在所述流入口和所述排出口之间形成所述气体流动的流路及从所述流路朝向所述窗体的斜坡。

公开(公告)号：CN119694965A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202311647574.3

申请日：2023-12-04

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 裵容浚 ,  阿萨图尔库尔舒迪安 ,  朴埈奭 ,  肖特拉克尔言 ,  具滋明

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种能够预防基板的剧烈的温度变化并保持一定温度的静电卡盘、等离子体处理方法以及等离子体处理装置。在根据本发明的等离子体处理装置中支承基板的静电卡盘包括：定位盘，安放用于等离子体处理的基板且在内部内置有加热器；以及底板，位于所述定位盘的下方，并在内部形成有供用于冷却的流体流动的冷却流路。在所述底板的内部形成由相变材料(phase change material)构成的温度保持层。