公开(公告)号：CN107564837B

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN201710525594.1

申请日：2017-06-30

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金荣河 ,  崔势定 ,  李康奭 ,  郭基荣 ,  朴廷恩 ,  朴贞英

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 公开了用于以液体处理基板的装置和方法。该用于以液体处理基板的方法包括：第一处理液体供给操作，其将第一处理液体供给至所述基板的处理位置；以及润湿操作，其在所述第一处理液体供给操作后将润湿液体供给至所述基板上，其中，所述润湿操作包括：同时供给操作，其在供给第一处理液体的同时将润湿液体供给至第一位置，其中所述第一位置是偏离所述处理位置的位置。因此，可以在将处理液体转换为润湿液体的同时防止基板的表面变干。

公开(公告)号：CN109669322A

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201811201628.2

申请日：2018-10-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 李成洙 ,  朴贞英 ,  朴性范 ,  姜丙喆

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种清洁光掩模的方法。该方法包括在光掩模停止的状态下在光掩模的整个表面上润湿化学品的预处理操作，以及在其中光掩模旋转的状态下将化学品供应到光掩模的图案区域的清洁操作。

公开(公告)号：CN109669322B

公开(公告)日：2021-07-09

申请号：CN201811201628.2

申请日：2018-10-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 李成洙 ,  朴贞英 ,  朴性范 ,  姜丙喆

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种清洁光掩模的方法。该方法包括在光掩模停止的状态下在光掩模的整个表面上润湿化学品的预处理操作，以及在其中光掩模旋转的状态下将化学品供应到光掩模的图案区域的清洁操作。

公开(公告)号：CN107564837A

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201710525594.1

申请日：2017-06-30

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金荣河 ,  崔势定 ,  李康奭 ,  郭基荣 ,  朴廷恩 ,  朴贞英

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 公开了用于以液体处理基板的装置和方法。该用于以液体处理基板的方法包括：第一处理液体供给操作，其将第一处理液体供给至所述基板的处理位置；以及润湿操作，其在所述第一处理液体供给操作后将润湿液体供给至所述基板上，其中，所述润湿操作包括：同时供给操作，其在供给第一处理液体的同时将润湿液体供给至第一位置，其中所述第一位置是偏离所述处理位置的位置。因此，可以在将处理液体转换为润湿液体的同时防止基板的表面变干。

公开(公告)号：CN107342248A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710300093.3

申请日：2017-05-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 朴贞英 ,  李康奭 ,  金俙焕

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

CPC分类号： B08B3/106 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  B08B2203/007 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67023 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67034

摘要： 提供了一种基板处理装置，包括：支撑单元，用于支撑基板；喷射单元，用于将有机溶剂喷射到支撑在所述支撑单元上的基板上；和溶剂供应单元，用于将有机溶剂以液体状态供应至所述喷射单元，该有机溶剂的温度高于有机溶剂在大气压下的沸点。