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公开(公告)号：CN117264631A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202310726266.3
申请日：2023-06-19
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 闵庚石 , 安硕浚 , 申东弓
IPC: C09K13/00 , H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本公开涉及一种蚀刻气体组合物、一种基底处理设备和一种图案形成方法。所述蚀刻气体组合物包括至少两种C3或C4有机氟化合物、以及氟化铌，并且至少两种C3或C4有机氟化合物是同分异构体。
