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公开(公告)号：CN101467210B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200780022013.7
申请日：2007-06-15
CPC classification number: G11B7/259 , G11B7/00736 , Y10T428/21
Abstract: 本发明可以确定通过物理转写在光学记录介质的基板上形成的凹坑和平面的形状而制备的盗版光盘记录介质。所述光学记录介质具有卓越的耐候性和长期存储可靠性。在通过凹坑和平面的组合记录了主数据的基板上形成由Ag100-x-yXxCuy的Ag合金膜所形成的反射膜，其中，X为Ti、W、Ta、V、Mo、Nb及Zr中的至少一种元素。可以形成标记，使得在所述反射膜上一次写入的记录辅助数据的记录标记的再生信号电平升高，并且在通过物理转写所述基板的凹坑和平面的表面形状而制备的光学记录介质的再生信号电平降低。以这种方式可以确定盗版光学记录介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101467210A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200780022013.7
申请日：2007-06-15
CPC classification number: G11B7/259 , G11B7/00736 , Y10T428/21
Abstract: 本发明可以确定通过物理转写在光学记录介质的基板上形成的凹坑和平面的形状而制备的盗版光盘记录介质。所述光学记录介质具有卓越的耐候性和长期存储可靠性。在通过凹坑和平面的组合记录了主数据的基板上形成由Ag100－x－yXxCuy的Ag合金膜所形成的反射膜，其中，X为Ti、W、Ta、V、Mo、Nb及Zr中的至少一种元素。可以形成标记，使得在所述反射膜上一次写入的记录辅助数据的记录标记的再生信号电平升高，并且在通过物理转写所述基板的凹坑和平面的表面形状而制备的光学记录介质的再生信号电平降低。以这种方式可以确定盗版光学记录介质。
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公开(公告)号：CN101548324A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200880000927.8
申请日：2008-04-10
Applicant: 索尼碟片数位解决方案股份有限公司 , 株式会社神户制钢所 , 克贝鲁可科研股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质，该反射膜具有高反射率，并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中，所述反射膜由包括0.01at％～1.0at％的Bi和0.1at％～13.0at％的Cu的Ag基合金构成。
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公开(公告)号：CN101548324B
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN200880000927.8
申请日：2008-04-10
Applicant: 索尼碟片数位解决方案股份有限公司 , 株式会社神户制钢所 , 克贝鲁可科研股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质，该反射膜具有高反射率，并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中，所述反射膜由包括0.01at％～1.0at％的Bi和0.1at％～13.0at％的Cu的Ag基合金构成。
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公开(公告)号：CN101689385B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200980000515.9
申请日：2009-04-30
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼化学&信息部件株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257 , C08F290/06
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/24 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2585 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中，25℃下的弹性模量在1×107Pa至5×108Pa的范围内，-20℃的弹性模量在4×108Pa至5×109Pa的范围内，玻璃化转变温度为一20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm2以下。光透过层的压痕蠕变为2％以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。
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公开(公告)号：CN101689385A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200980000515.9
申请日：2009-04-30
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼化学&信息部件株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257 , C08F290/06
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/24 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2585 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中，25℃下的弹性模量在1×10 7 Pa至5×10 8 Pa的范围内，-20℃的弹性模量在4×10 8 Pa至5×10 9 Pa的范围内，玻璃化转变温度为-20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm 2 以下。光透过层的压痕蠕变为2％以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。
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