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公开(公告)号：CN112839809A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN202080005649.6
申请日：2020-03-06
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在用于柔性电路基板的制造工序时不会污染基板的脱模膜。本发明是一种脱模膜，其具有脱模层，所述脱模层含有烯烃系聚合物和熔点为160℃以上的酚系抗氧化剂。另外，本发明是一种脱模膜，其具有脱模层，所述脱模层含有烯烃系聚合物和金属钝化剂，所述脱模层的通过X射线光电子能谱法测定的表面的氮浓度为1.5％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111819228B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN201980017734.1
申请日：2019-03-19
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的的目的在于，提供具有比以往更优异的脱模性、也可适合用于利用RtoR方式的挠性电路基板的制造的脱模膜。本发明为一种脱模膜，其为具有至少1个脱模层的脱模膜，上述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50％以上。
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公开(公告)号：CN113840707A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202080035652.2
申请日：2020-09-17
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供具有比以往更优异的脱模性、还可以合适地用于基于R to R方式的柔性电路基板的制造的脱模膜。本发明是一种脱模膜，其特征在于，其具有至少1个脱模层，所述脱模层含有芳香族聚酯树脂，并且基于利用全反射测定法得到的红外吸收光谱并以下述式(1)求出的取向函数f为0.35以上。下述式(1)中，A1表示在C＝O伸缩运动所引起的吸收为最大的入射方向(第1方向)上的C＝O伸缩运动所引起的吸收强度，A2表示在与第1方向垂直的方向(第2方向)上的C＝O伸缩运动所引起的吸收强度。
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公开(公告)号：CN113939397A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080042088.7
申请日：2020-09-17
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供具有比以往更优异的脱模性、且耐褶皱性也优异的脱模膜、及制造该脱模膜的方法。本发明是一种脱模膜，其具有至少1个脱模层，所述脱模层的通过将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求出的结晶化度为50％以上，所述脱模层的表面的算术平均粗糙度Ra为2.0μm以上。
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公开(公告)号：CN117255840A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202280031705.2
申请日：2022-09-13
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C09J7/38
Abstract: 本发明的目的在于提供：高频带下的介电损耗角正切小、即使在高温环境下也不易在与被粘物的界面产生发泡的粘合片；以及使用了该粘合片的层叠体；以及发送或接收电磁波的装置。本发明为一种粘合片，其具有粘合剂层，上述粘合剂层含有苯乙烯系弹性体作为基础树脂，且凝胶分率为30重量％以上，上述粘合片不具有基材，且对玻璃的90°剥离力为5N/25mm以上。
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公开(公告)号：CN111819228A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017734.1
申请日：2019-03-19
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的的目的在于，提供具有比以往更优异的脱模性、也可适合用于利用RtoR方式的挠性电路基板的制造的脱模膜。本发明为一种脱模膜，其为具有至少1个脱模层的脱模膜，上述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50％以上。
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