公开(公告)号：CN111837228B

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN201980017247.5

申请日：2019-03-28

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： M·普利哈尔 ,  S·帕拉马西万 ,  A·杰因 ,  P·俄珀鲁里 ,  R·科努鲁

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/66

摘要： 本发明提供用于选择用于检验样品的模式的方法及系统。一种方法包含确定在样品上所检测到的所关注缺陷DOI与扰乱在检验子系统的一或多个模式中的可分离性如何。使用所述模式针对所述DOI及所述扰乱的可分离性来选择所述模式的子集以用于检验相同类型的其它样品。所述模式的性能的其它特性可与所述可分离性组合使用来选择所述模式。基于所述可分离性而选择的所述模式子集还可为初始模式子集，针对所述初始模式子集执行额外分析以确定所述模式的最后子集。

公开(公告)号：CN108604560B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201780009278.7

申请日：2017-01-31

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： A·杰因 ,  A·亚提 ,  T·杰亚瑞曼 ,  R·科努鲁 ,  R·库帕 ,  H·普拉萨德 ,  S·莫穆拉 ,  A·罗布

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01L21/67

摘要： 针对图像检视(例如SEM检视)的抗扭斜对准检查与检视坐标系。可使用设计文件或检查图像来自动进行抗扭斜。与检视工具通信的控制器可将所述晶片的文件(例如设计文件或检查图像)与来自所述检视工具的所述晶片的图像对准；比较所述文件的对准位点与来自所述检视工具的所述图像的对准位点；及产生所述文件的所述对准位点的坐标及来自所述检视工具的所述图像的对准位点的坐标的抗扭斜变换。所述晶片的所述图像可不含有缺陷。

公开(公告)号：CN108604560A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201780009278.7

申请日：2017-01-31

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： A·杰因 ,  A·亚提 ,  T·杰亚瑞曼 ,  R·科努鲁 ,  R·库帕 ,  H·普拉萨德 ,  S·莫穆拉 ,  A·罗布

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01L21/67

摘要： 针对图像检视(例如SEM检视)的抗扭斜对准检查与检视坐标系。可使用设计文件或检查图像来自动进行抗扭斜。与检视工具通信的控制器可将所述晶片的文件(例如设计文件或检查图像)与来自所述检视工具的所述晶片的图像对准；比较所述文件的对准位点与来自所述检视工具的所述图像的对准位点；及产生所述文件的所述对准位点的坐标及来自所述检视工具的所述图像的对准位点的坐标的抗扭斜变换。所述晶片的所述图像可不含有缺陷。

公开(公告)号：CN116917932A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202280018816.X

申请日：2022-05-31

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： A·古拉堤 ,  R·科努鲁 ,  N·拉克希米纳拉辛汉 ,  S·帕拉马西万 ,  M·普利哈尔 ,  P·俄珀鲁里

IPC分类号： G06T5/00

摘要： 提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含经配置用于对由成像子系统产生的样品的图像去除噪声的深度学习模型。所述计算机子系统经配置用于从所述去除噪声的图像确定所述样品的信息。

公开(公告)号：CN111837228A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201980017247.5

申请日：2019-03-28

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： M·普利哈尔 ,  S·帕拉马西万 ,  A·杰因 ,  P·俄珀鲁里 ,  R·科努鲁

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/66

摘要： 本发明提供用于选择用于检验样品的模式的方法及系统。一种方法包含确定在样品上所检测到的所关注缺陷DOI与扰乱在检验子系统的一或多个模式中的可分离性如何。使用所述模式针对所述DOI及所述扰乱的可分离性来选择所述模式的子集以用于检验相同类型的其它样品。所述模式的性能的其它特性可与所述可分离性组合使用来选择所述模式。基于所述可分离性而选择的所述模式子集还可为初始模式子集，针对所述初始模式子集执行额外分析以确定所述模式的最后子集。