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公开(公告)号:CN115696707A
公开(公告)日:2023-02-03
申请号:CN202211492634.4
申请日:2017-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请揭示一种用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法。一种用于形成激光维持等离子体的系统包含:气体围阻元件;照明源,其经配置以产生泵激照明;及集光器元件,其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
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公开(公告)号:CN108369891A
公开(公告)日:2018-08-03
申请号:CN201680071090.0
申请日:2016-12-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J61/30
CPC classification number: H01J61/025 , H01J61/302 , H01J61/52 , H01J65/04
Abstract: 一种激光维持等离子体灯包含经配置以容置一定体积的气体的气体容置结构。所述气体容置结构经配置以从用于在所述体积的气体内产生等离子体的泵激光器接收泵照明。所述气体容置结构包含一或多个透射结构,所述一或多个透射结构对来自所述泵激光器的所述泵照明和由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分至少部分地透明。所述一或多个透射结构具有渐变吸收剖面,以便控制由由所述等离子体发射的所述宽带辐射引起的对所述一或多个透射结构的加热。
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公开(公告)号:CN108369891B
公开(公告)日:2021-06-18
申请号:CN201680071090.0
申请日:2016-12-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J61/30
Abstract: 一种激光维持等离子体灯包含经配置以容置一定体积的气体的气体容置结构。所述气体容置结构经配置以从用于在所述体积的气体内产生等离子体的泵激光器接收泵照明。所述气体容置结构包含一或多个透射结构,所述一或多个透射结构对来自所述泵激光器的所述泵照明和由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分至少部分地透明。所述一或多个透射结构具有渐变吸收剖面,以便控制由由所述等离子体发射的所述宽带辐射引起的对所述一或多个透射结构的加热。
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公开(公告)号:CN109315058A
公开(公告)日:2019-02-05
申请号:CN201780029807.X
申请日:2017-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种用于形成激光维持等离子体的系统,其包含:气体围阻元件;照明源,其经配置以产生泵激照明;及集光器元件,其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
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