低粗糙面电解铜箔及其制造方法

    公开(公告)号:CN1788111A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN200480012732.7

    申请日:2004-05-12

    Abstract: 一种低粗糙面电解铜箔,其粗糙面粗糙度Rz是2.5μm以下,从电沉积结束时开始在20分钟以内测定的在25℃的抗拉强度为500MPa以上,同时,从电沉积结束开始经过300分钟时测定的在25℃的抗拉强度的降低率为10%以下,且在180℃的延伸率为6%以上。一种电解铜箔的制造方法,该电解铜箔是以硫酸-硫酸铜水溶液为电解液,使用被铂金属元素或其氧化物元素被覆了的钛构成的不溶性阳极和与该阳极相对的钛制阴极筒,在该两极间接通直流电流,其中在上述电解液中存在羟乙基纤维素、聚乙烯亚胺、活性有机硫化合物的磺酸盐、乙炔二醇及氯离子。

    电解铜箔及其制造方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102168289B

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201110044081.1

    申请日:2011-02-21

    Abstract: 一种适宜作为TAB工艺使用的电解铜箔材料的电解铜箔,具有在粗糙面侧上未实质上形成有山谷形状的低粗糙面,并且具备高抗拉强度,不产生镀锡剥离。本发明的电解铜箔的制造方法,是将硫酸-硫酸铜水溶液作为电解液,采用由钛构成的不溶性阳极和与该阳极相对的钛制阴极滚筒,在两极间流通直流电流,不溶性阳极被铂族元素或其氧化物包覆,其中,使非离子性水溶性高分子、活性有机硫化合物的磺酸盐、硫脲类化合物和氯离子存在于前述电解液中,获得下述电解铜箔:粗糙面粗糙度2.0μm以下,具有由通过X射线衍射检测的粗糙面侧的220铜衍射线相对强度求得的取向指数5.0以上的结晶组织,在180℃加热1小时后的抗拉强度是500MPa以上。

    铜箔的粗面化处理方法以及粗面化处理液

    公开(公告)号:CN100572608C

    公开(公告)日:2009-12-23

    申请号:CN200510078567.1

    申请日:2005-06-17

    Abstract: 一种铜箔的粗面化处理方法,包括:工序A:作为粗面化处理用的处理液,调制含有至少一种如下的粗面化添加物质的硫酸酸性溶液的工序,所述粗面化添加物质是在分子中含下记的化学结构且具有2个以上的环式结构的杂环化合物;工序B:使用所述硫酸酸性溶液,在极限电流密度以上的电流密度下对铜箔的单面或双面实施阴极处理,从而在所述铜箔表面上形成铜的突起状电沉积物。根据本发明,可提供在短时间内、在没有粗化粒子脱落的危险性的情况下得到均匀的粗化粒子,适于制造低粗糙度、与树脂等具有高密着力、对于薄箔生产效率也良好的粗面化处理方法。此外,还提供在这种铜箔的粗面化处理方法中使用的处理液。

    印刷配线板用电解铜箔及使用该电解铜箔的覆铜层压板

    公开(公告)号:CN106068063B

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201610192736.2

    申请日:2016-03-30

    Abstract: 本发明旨在提供一种热处理后的延伸率高、具备耐折性,并且粗糙面侧的异常突起少的电解铜箔,在该电解铜箔制成覆铜层压板的情况下,可适用于HAZE值低的挠性印刷配线板。本发明公开了一种印刷配线板用电解铜箔,所述印刷配线板用电解铜箔将在鼓状旋转阴极表面连续析出而制造的电解铜箔的光泽面作为与绝缘性树脂基材的粘接面,所述光泽面在TD方向上的入射角60°的镜面光泽度为220以下,且所述光泽面在TD方向和MD方向上的入射角60°的镜面光泽度之和为350以上。

    印刷配线板用电解铜箔及使用该电解铜箔的覆铜层压板

    公开(公告)号:CN106068063A

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:CN201610192736.2

    申请日:2016-03-30

    CPC classification number: Y02P10/236 H05K3/382 C25D1/04 H05K2201/0355

    Abstract: 本发明旨在提供一种热处理后的延伸率高、具备耐折性,并且粗糙面侧的异常突起少的电解铜箔,在该电解铜箔制成覆铜层压板的情况下,可适用于HAZE值低的挠性印刷配线板。本发明公开了一种印刷配线板用电解铜箔,所述印刷配线板用电解铜箔将在鼓状旋转阴极表面连续析出而制造的电解铜箔的光泽面作为与绝缘性树脂基材的粘接面,所述光泽面在TD方向上的入射角60°的镜面光泽度为220以下,且所述光泽面在TD方向和MD方向上的入射角60°的镜面光泽度之和为350以上。

    铜箔的粗面化处理方法以及粗面化处理液

    公开(公告)号:CN1715457A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510078567.1

    申请日:2005-06-17

    Abstract: 一种铜箔的粗面化处理方法,包括:工序A:作为粗面化处理用的处理液,调制含有至少一种如下的粗面化添加物质的硫酸酸性溶液的工序,所述粗面化添加物质是在分子中含下记的化学结构且具有2个以上的环式结构的杂环化合物;工序B:使用所述硫酸酸性溶液,在极限电流密度以上的电流密度下对铜箔的单面或双面实施阴极处理,从而在所述铜箔表面上形成铜的突起状电沉积物。根据本发明,可提供在短时间内、在没有粗化粒子脱落的危险性的情况下得到均匀的粗化粒子,适于制造低粗糙度、与树脂等具有高密着力、对于薄箔生产效率也良好的粗面化处理方法。此外,还提供在这种铜箔的粗面化处理方法中使用的处理液。

    电解铜箔及其制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102168289A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN201110044081.1

    申请日:2011-02-21

    Abstract: 一种适宜作为TAB工艺使用的电解铜箔材料的电解铜箔,具有在粗糙面侧上未实质上形成有山谷形状的低粗糙面,并且具备高抗拉强度,不产生镀锡剥离。本发明的电解铜箔的制造方法,是将硫酸-硫酸铜水溶液作为电解液,采用由钛构成的不溶性阳极和与该阳极相对的钛制阴极滚筒,在两极间流通直流电流,不溶性阳极被铂族元素或其氧化物包覆,其中,使非离子性水溶性高分子、活性有机硫化合物的磺酸盐、硫脲类化合物和氯离子存在于前述电解液中,获得下述电解铜箔:粗糙面粗糙度2.0μm以下,具有由通过X射线衍射检测的粗糙面侧的220铜衍射线相对强度求得的取向指数5.0以上的结晶组织,在180℃加热1小时后的抗拉强度是500MPa以上。

    低粗糙面电解铜箔及其制造方法

    公开(公告)号:CN1788111B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200480012732.7

    申请日:2004-05-12

    Abstract: 一种低粗糙面电解铜箔,其粗糙面粗糙度Rz是2.5μm以下,从电沉积结束时开始在20分钟以内测定的在25℃的抗拉强度为500MPa以上,同时,从电沉积结束开始经过300分钟时测定的在25℃的抗拉强度的降低率为10%以下,且在180℃的延伸率为6%以上。一种电解铜箔的制造方法,该电解铜箔是以硫酸-硫酸铜水溶液为电解液,使用被铂金属元素或其氧化物元素被覆了的钛构成的不溶性阳极和与该阳极相对的钛制阴极筒,在该两极间接通直流电流,其中在上述电解液中存在羟乙基纤维素、聚乙烯亚胺、活性有机硫化合物的磺酸盐、乙炔二醇及氯离子。

    低粗糙面电解铜箔及其制造方法

    公开(公告)号:CN100554527C

    公开(公告)日:2009-10-28

    申请号:CN200480007824.6

    申请日:2004-04-05

    Abstract: 本发明涉及粗糙面粗糙度Rz在2.0μm以下、在该粗糙面上不出现凹凸起伏、具有均匀的低粗糙度的粗糙面、并且在180℃的伸长率达到10.0%以上的低粗糙面电解铜箔。该低粗糙面电解铜箔,在以硫酸—硫酸铜水溶液作为电解液,采用以铂金属或其氧化物被覆的钛板构成的不溶性阳极与相对于该阳极的阴极上使用钛制辊筒,在该两极之间通直流电的电解铜箔的制造方法中,通过在上述电解液中添加氧化乙烯类表面活性剂、聚乙烯亚胺或其衍生物、活性有机硫化合物的磺酸盐及氯离子而得到。

    低粗糙面电解铜箔及其制造方法

    公开(公告)号:CN1764744A

    公开(公告)日:2006-04-26

    申请号:CN200480007824.6

    申请日:2004-04-05

    Abstract: 本发明涉及粗糙面粗糙度Rz在2.0μm以下、在该粗糙面上不出现凹凸起伏、具有均匀的低粗糙度的粗糙面、并且在180℃的伸长率达到10.0%以上的低粗糙面电解铜箔。该低粗糙面电解铜箔,在以硫酸-硫酸铜水溶液作为电解液,采用以铂元素或其氧化物元素被覆的钛板构成的不溶性阳极与相对于该阳极的阴极上使用钛制辊筒,在该两极之间通直流电的电解铜箔的制造方法中,通过在上述电解液中添加氧化乙烯类表面活性剂、聚乙烯亚胺或其衍生物、活性有机硫化合物的磺酸盐及氯离子而得到。

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