一种ITO靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111592339A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010493267.4

    申请日:2020-06-03

    摘要: 本发明涉及靶材制备技术领域,尤其涉及一种ITO靶材及其制备方法。本发明提供的制备方法,包括以下步骤:分别对氧化铟粉和氧化锡粉进行球磨,得到氧化铟浆料和氧化锡浆料;将所述氧化铟浆料、氧化锡浆料和粘结剂置于储存罐中,利用隔膜泵使储存罐中的物料在超声波浆料分散机和储存罐之间进行循环分散,得到混合浆料;将所述混合浆料注入模具中,进行成型,脱模后得到生坯,对所述生坯依次进行干燥、脱脂和烧结,得到ITO靶材。采用本发明方法制备的ITO靶材,相对于传统混合球磨方式制备的ITO靶材,密度更高、电阻率更低,且在保证性能的同时,采用本发明的制备方法能够减少Zr污染并缩短球磨时间。