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公开(公告)号:CN105280625A
公开(公告)日:2016-01-27
申请号:CN201510293629.4
申请日:2015-06-01
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: H01L25/07 , H01L29/808 , H01L29/78
Abstract: 本发明涉及一种半导体装置和电子设备,其改进了半导体装置的制造成品率。提供了一种共射共基耦合系统的半导体装置,其具有使用带隙大于硅的物质作为材料的多个常通的结FET,以及使用硅作为材料的常断的MOSFET。此时,半导体芯片具有由结FET以分开方式形成的多个结FET半导体芯片(半导体芯片CHP0和半导体芯片CHP9),以及由MOSFET形成的MOSFET半导体芯片(半导体芯片CHP2)。