半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN108461398A

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201810022481.4

    申请日:2018-01-10

    Inventor: 安部谦一郎

    Abstract: 本发明涉及半导体器件及其制造方法。本发明提供一种减少导电膜的电阻值变化的半导体器件。根据实施例的半导体器件包括半导体基板、布线层、介电膜、金属膜和层间介电膜。半导体基板具有第一表面。布线层布置在第一表面上方。布线层具有第一部分,以及与第一部分分开设置的第二部分。介电膜布置在第一部分上方。金属膜布置在介电膜上方。层间介电膜覆盖了介电膜和金属膜,并且位于第一部分和第二部分之间。空气间隙设置在位于第一部分和第二部分之间的层间介电膜内。空气间隙在与第一表面交叉的方向上延伸。

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