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公开(公告)号:CN115910988A
公开(公告)日:2023-04-04
申请号:CN202211064748.9
申请日:2022-09-01
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: H01L23/522 , H10N97/00 , H01L21/768
Abstract: 公开了一种半导体器件及其制造方法。该半导体器件包括绝缘层、第一导电膜、第二导电膜和薄膜电阻器。绝缘层具有贯穿部分。第一导电膜形成在贯穿部分中,使得凹部形成在贯穿部分的上部处。第二导电膜形成在第一导电膜的上表面和贯穿部分的内表面上。薄膜电阻器包括硅和金属。薄膜电阻器形成在第二导电膜和绝缘层上。
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公开(公告)号:CN115954170A
公开(公告)日:2023-04-11
申请号:CN202211191902.9
申请日:2022-09-28
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Abstract: 本公开涉及电阻器材料、电阻器元件以及电阻器元件的制造方法。电阻器材料包括多个具有正电阻温度系数的晶相和具有负电阻温度系数并且电阻率高于晶相的非晶相,其中晶相和非晶相处于混合状态。另外,提供了一种具有由上述电阻器材料构成的电阻器膜的电阻器元件,并且提供了一种通过形成具有负电阻温度系数的非晶材料的膜并且对该膜进行退火处理以获取电阻器元件来制造电阻器元件的方法。
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