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公开(公告)号：CN101025576A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710079526.3
申请日：2007-02-16
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 , 帕路斯科技株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00 , B23K26/00
Abstract: 本发明涉及激光加工装置及激光加工方法，在加工对象物上制作具有预定的超细微图案的纳米构造物，并可以在短时间内进行纳米构造物的加工形状的评价。所述装置具有装载加工对象物并使其旋转的旋转机构和在加工对象物的径向上可直线移动的移动机构，由激光形成于加工对象物表面上的射束点在描绘轨迹的同时进行移动。通过调整该射束点的激光的光强度分布使制作于加工对象物上的超细微图案成为想要的形状。为了设定调整时的参数值，通过评价来自超细微图案的反射光来对制作的超细微图案进行评价。
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公开(公告)号：CN101025576B
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN200710079526.3
申请日：2007-02-16
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 , 日本帕路斯科技株式会社
Abstract: 本发明涉及激光加工装置及激光加工方法，在加工对象物上制作具有预定的超细微图案的纳米构造物，并可以在短时间内进行纳米构造物的加工形状的评价。所述装置具有装载加工对象物并使其旋转的旋转机构和在加工对象物的径向上可直线移动的移动机构，由激光形成于加工对象物表面上的射束点在描绘轨迹的同时进行移动。通过调整该射束点的激光的光强度分布使制作于加工对象物上的超细微图案成为想要的形状。为了设定调整时的参数值，通过评价来自超细微图案的反射光来对制作的超细微图案进行评价。
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公开(公告)号：CN101762978A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200910252535.7
申请日：2009-12-23
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 , 日东电工株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B3/0012 , Y10T428/24479
Abstract: 一种含有金属氮氧化物而成的抗蚀剂。本发明的抗蚀剂能够适合用于制备例如微透镜片材、光扩散片、无反射片、光半导体元件密封用片材、光波导、光盘、光传感器等的光学部件的表面加工用的成形模具。
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公开(公告)号：CN1672202A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN03817344.1
申请日：2003-06-24
Applicant: TDK株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所 , 日本先锋公司 , 夏普株式会社 , 三星日本株式会社
CPC classification number: G11B7/2433 , G11B7/00452 , G11B7/242 , G11B7/257 , G11B2007/2432
Abstract: 通过分解贵金属氧化物并使贵金属氧化物层变形，在包括贵金属氧化物层的光学记录媒体中形成记录标记串。贵金属颗粒不可逆地淀积在以记录标记串形成的贵金属氧化物层中，并且将再现数据的激光束辐射在由此淀积的贵金属颗粒上，由此读取记录标记串。记录标记串包括具有短于0.37λ/NA的长度的至少一个记录标记，其中λ是激光束的波长，NA是辐射激光束的光学系统。根据本发明，在以这种方式记录和再现具有小于分辨率极限的尺寸的记录标记或具有等于或大于该分辨率极限但接近该分辨率极限的尺寸的记录标记的情况下，可以获得高再现输出，并且对于在记录标记串中的所有的记录标记中的每个记录标记，可以实现高再现持久性。
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